| 致谢 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 变量注释表 | 第14-15页 |
| 1 绪论 | 第15-24页 |
| 1.1 选题背景及研究意义 | 第15-16页 |
| 1.2 文献综述 | 第16-23页 |
| 1.3 研究内容 | 第23-24页 |
| 2 实验部分 | 第24-29页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第24页 |
| 2.2 实验装置及条件 | 第24-29页 |
| 3 硫脲在单晶金球电极上的循环伏安曲线分析及空白实验 | 第29-34页 |
| 3.1 硫脲在金球电极上的循环伏安曲线分析 | 第29-31页 |
| 3.2 不同电位区间高氯酸对Au(111)晶面形貌的影响 | 第31-33页 |
| 3.3 小结 | 第33-34页 |
| 4 不同电位区间硫脲对Au(111)晶面形貌的影响 | 第34-47页 |
| 4.1 开路电位附近Au(111)晶面的溶解过程 | 第35-37页 |
| 4.2 低于开路电位时，Au(111)晶面上金的沉积过程 | 第37-41页 |
| 4.3 高于开路电位时，Au(111)晶面上金的溶解过程 | 第41-42页 |
| 4.4 Au(111)晶面溶解和沉积过程中的物料分析 | 第42-46页 |
| 4.5 小结 | 第46-47页 |
| 5 开路电位下硫脲对Au(111)晶面的溶解过程分析 | 第47-56页 |
| 5.1 开路电位下硫脲对Au(111)晶面的溶解过程 | 第47-53页 |
| 5.2 模拟分析 | 第53-55页 |
| 5.3 小结 | 第55-56页 |
| 6 AFM探针和晶面杂质对硫脲溶解Au(111)晶面过程的影响 | 第56-61页 |
| 6.1 AFM探针对硫脲溶解Au(111)晶面过程的影响 | 第56-58页 |
| 6.2 杂质对硫脲溶解Au(111)晶面过程的影响 | 第58-60页 |
| 6.3 小结 | 第60-61页 |
| 7 结论与展望 | 第61-63页 |
| 7.1 结论 | 第61-62页 |
| 7.2 创新点 | 第62页 |
| 7.3 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 作者简历 | 第69-71页 |
| 学位论文数据集 | 第71页 |
