铌掺杂二氧化钛导电薄膜等离子体材料性能研究

摘要	第4-5页
Abstract	第5-6页
1 绪论	第9-21页
1.1 课题研究的背景及意义	第9-10页
1.2 可替代等离子体材料	第10-12页
1.3 TCO薄膜等离子体材料	第12-14页
1.4 TNO薄膜的制备及研究	第14-19页
1.5 论文主要研究内容	第19-21页
2 脉冲激光沉积TNO薄膜技术	第21-29页
2.1 脉冲激光沉积的简要历史	第21-22页
2.2 脉冲激光沉积系统	第22-25页
2.3 脉冲激光沉积薄膜的特点	第25-26页
2.4 沉积TNO薄膜重要工艺参数	第26-28页
2.5 本章小结	第28-29页
3 TNO薄膜的制备工艺	第29-42页
3.1 靶材的制备	第29-35页
3.2 靶材的性能表征	第35-38页
3.3 TNO薄膜沉积	第38-41页
3.4 本章小结	第41-42页
4 TNO薄膜的结构和性能分析	第42-58页
4.1 TNO薄膜结晶性分析	第42-47页
4.2 TNO薄膜电学性能分析	第47-50页
4.3 TNO薄膜的光学性能	第50-54页
4.4 TNO薄膜表面等离子材料性能分析	第54-57页
4.5 本章小结	第57-58页
5 总结与展望	第58-60页
致谢	第60-62页
参考文献	第62-70页