| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章：绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题的来源 | 第9页 |
| 1.2 课题的背景及意义 | 第9-15页 |
| 1.2.1 微晶玻璃的发展历程 | 第9-10页 |
| 1.2.2 微晶玻璃的典型组成和性能 | 第10-11页 |
| 1.2.3 微晶玻璃的应用 | 第11-13页 |
| 1.2.4 ZERODUR微晶玻璃介绍 | 第13-14页 |
| 1.2.5 课题的意义 | 第14-15页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第16页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章：残余应力机理 | 第18-22页 |
| 2.1 残余应力的概念 | 第18页 |
| 2.2 残余应力的分类 | 第18-19页 |
| 2.3 残余应力的影响 | 第19-20页 |
| 2.4 残余应力的检测 | 第20页 |
| 2.5 残余应力的消除方法 | 第20-21页 |
| 2.6 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章：酸蚀机理及裂纹酸蚀的实验分析 | 第22-37页 |
| 3.1 氢氟酸酸蚀机理 | 第22-24页 |
| 3.2 微晶玻璃表面显著裂纹酸蚀实验 | 第24-29页 |
| 3.2.1 实验样品及器材 | 第24-25页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第25页 |
| 3.2.3 实验结果 | 第25-29页 |
| 3.3 微晶玻璃表面划痕酸蚀实验 | 第29-31页 |
| 3.3.1 实验样品与器材 | 第29页 |
| 3.3.2 实验方法 | 第29页 |
| 3.3.3 实验结果 | 第29-31页 |
| 3.4 微晶玻璃表面微裂纹酸蚀实验 | 第31-35页 |
| 3.4.1 实验样品及器材 | 第31页 |
| 3.4.2 实验方法 | 第31页 |
| 3.4.3 实验结果 | 第31-35页 |
| 3.5 实验分析 | 第35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-37页 |
| 第四章：酸蚀工艺的实验与优化 | 第37-58页 |
| 4.1 酸蚀工艺条件分析 | 第37-38页 |
| 4.1.1 化学反应活化能理论 | 第37-38页 |
| 4.1.2 酸蚀过程中影响的工艺条件 | 第38页 |
| 4.2 间隔清洗时间的影响 | 第38-40页 |
| 4.2.1 实验用品及测试器材 | 第38页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第38-39页 |
| 4.2.3 实验结果 | 第39-40页 |
| 4.3 酸蚀时间的影响 | 第40-46页 |
| 4.3.1 实验用品及测试器材 | 第40-41页 |
| 4.3.2 实验方法 | 第41页 |
| 4.3.3 酸蚀时间对于微晶玻璃去除量的影响 | 第41-42页 |
| 4.3.4 酸蚀时间对于微晶玻璃表面形貌的影响 | 第42-46页 |
| 4.4 酸蚀浓度的影响 | 第46-52页 |
| 4.4.1 实验用品及测试器材 | 第46-47页 |
| 4.4.2 实验方法 | 第47页 |
| 4.4.3 氢氟酸浓度对于微晶玻璃去除量的影响 | 第47-48页 |
| 4.4.4 氢氟酸浓度对于微晶玻璃表面形貌的影响 | 第48-52页 |
| 4.5 加入稀硫酸对于酸蚀的影响 | 第52-56页 |
| 4.5.1 实验用品及测试器材 | 第53页 |
| 4.5.2 实验方法 | 第53页 |
| 4.5.3 加入稀硫酸对于去除量的影响 | 第53-54页 |
| 4.5.4 加入稀硫酸对于表面形貌的影响 | 第54-56页 |
| 4.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 保形酸蚀工艺的研究 | 第58-66页 |
| 5.1 实验件酸蚀后不同位置去除量变化的探究 | 第58-62页 |
| 5.1.1 实验样品及器材 | 第58页 |
| 5.1.2 实验方法 | 第58页 |
| 5.1.3 实验结果 | 第58-62页 |
| 5.2 可用于全低温光学系统的微晶玻璃结构件保形酸蚀工艺 | 第62-65页 |
| 5.2.1 微晶玻璃结构件和使用器材 | 第62-63页 |
| 5.2.2 微晶玻璃结构件酸蚀过程 | 第63-64页 |
| 5.2.3 微晶玻璃结构件酸蚀结果 | 第64-65页 |
| 5.3 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-67页 |
| 6.1 总结 | 第66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第70页 |
| 参加学术会议 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |