| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪言 | 第10-21页 |
| ·课题来源与背景 | 第10页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第10页 |
| ·类金刚石薄膜简介 | 第10-18页 |
| ·DLC 薄膜的结构与研究现状 | 第10-12页 |
| ·DLC 薄膜的发展 | 第12-13页 |
| ·DLC 薄膜的形成机理 | 第13-16页 |
| ·DLC 薄膜的制备 | 第16-18页 |
| ·DLC 薄膜的应用 | 第18页 |
| ·磁头简介 | 第18-20页 |
| ·本文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 实验原理和试样制备 | 第21-34页 |
| ·前言 | 第21页 |
| ·实验原理与表征 | 第21-31页 |
| ·FCVA 制备薄膜的原理及特点 | 第21-23页 |
| ·原子力显微镜 | 第23-25页 |
| ·Raman 光谱仪 | 第25-29页 |
| ·可接触角测量仪（WCA） | 第29-31页 |
| ·DLC 薄膜的制备 | 第31-33页 |
| ·试样基底的预清洗 | 第31-32页 |
| ·试样的制备 | 第32-33页 |
| ·薄膜试样的退火处理 | 第33-34页 |
| 第三章 偏压对DLC 薄膜的结构和性能的影响 | 第34-42页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·不同偏压沉积的DLC 薄膜的Raman 光谱分析 | 第34-38页 |
| ·不同偏压沉积的DLC 薄膜的Raman 光谱测量结果 | 第34页 |
| ·Raman 光谱测量结果分析与讨论 | 第34-38页 |
| ·偏压对DLC 薄膜的表面粗糙度的影响 | 第38-40页 |
| ·不同偏压沉积的DLC 薄膜的表面粗糙度测量结果 | 第38-39页 |
| ·偏压对DLC 薄膜表面粗糙度的影响 | 第39-40页 |
| ·偏压对DLC 薄膜的表面接触角的影响 | 第40-41页 |
| ·不同偏压沉积的DLC 薄膜的表面接触角测量结果 | 第40-41页 |
| ·偏压对DLC 薄膜的表面接触角的影响 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 退火处理对不同偏压沉积的DLC 薄膜的影响 | 第42-53页 |
| ·前言 | 第42页 |
| ·退火DLC 薄膜的Raman 光谱分析 | 第42-48页 |
| ·不同温度退火后DLC 薄膜的Raman 光谱测量结果 | 第42-43页 |
| ·退火后偏压DLC 薄膜的Raman 光谱测量结果分析与讨论 | 第43-48页 |
| ·退火后不同偏压DLC 薄膜的表面分析 | 第48-50页 |
| ·退火后不同偏压DLC 薄膜的表面测量结果 | 第48-49页 |
| ·退火对不同偏压DLC 薄膜的表面粗糙度的影响 | 第49-50页 |
| ·退火后不同偏压DLC 薄膜的表面接触角分析 | 第50-51页 |
| ·退火后不同偏压DLC 薄膜的表面接触角测量结果 | 第50-51页 |
| ·退火对不同偏压DLC 薄膜的表面接触角的影响 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 偏压对DLC 薄膜结构和热稳定性的影响 | 第53-67页 |
| ·前言 | 第53页 |
| ·200℃退火后偏压对DLC 薄膜结构和热稳定性的影响 | 第53-57页 |
| ·200℃退火后偏压对DLC 薄膜的Raman 分析 | 第53-55页 |
| ·200℃退火后偏压对DLC 薄膜表面粗糙度分析 | 第55-56页 |
| ·200℃退火后偏压对DLC 薄膜的表面接触角分析 | 第56-57页 |
| ·300℃退火后偏压对DLC 薄膜结构和热稳定性的影响 | 第57-62页 |
| ·300℃退火后偏压对DLC 薄膜的Raman 分析 | 第57-60页 |
| ·300℃退火后偏压对DLC 薄膜表面粗糙度分析 | 第60页 |
| ·300℃退火后偏压对DLC 薄膜的表面接触角分析 | 第60-62页 |
| ·400℃退火后偏压对 DLC 薄膜结构和热稳定性的影响 | 第62-66页 |
| ·400℃退火后偏压对DLC 薄膜的Raman 分析 | 第62-64页 |
| ·400℃退火后偏压对DLC 薄膜表面粗糙度分析 | 第64-65页 |
| ·400℃退火后偏压对DLC 薄膜表面接触角分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 附件 | 第75页 |
