摘要 | 第2-4页 |
ABSTACT | 第4-5页 |
第1章 引言 | 第8-12页 |
1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
1.2 国内外的研究现状 | 第9-10页 |
1.3 本论文的主要工作 | 第10-12页 |
第2章 工业X、γ 射线探伤的理论基础 | 第12-20页 |
2.1 γ 射线与物质的相互作用 | 第12-13页 |
2.2 X射线在探伤室内的辐射影响 | 第13-14页 |
2.2.1 初级X射线 | 第13页 |
2.2.2 次级X射线 | 第13-14页 |
2.3 工业X、γ 探伤机的工作原理 | 第14-18页 |
2.3.1 工业X射线探伤机结构及工作原理 | 第14-16页 |
2.3.2 工业 γ 射线探伤机结构和工作原理 | 第16-18页 |
2.4 常用的辐射量 | 第18-20页 |
第3章 MONTE CARLO方法的相关介绍 | 第20-27页 |
3.1 蒙特卡罗方法 | 第20-21页 |
3.2 蒙特卡罗模拟法的收敛性与误差 | 第21-22页 |
3.3 MCNP程序 | 第22-23页 |
3.4 模拟步骤及处理方法 | 第23-25页 |
3.5 MCNP5程序在本论文相关的应用 | 第25-27页 |
第4章 MCNP5程序对工业X、γ 设备辐射环境的模拟 | 第27-46页 |
4.1 γ 射线探伤室防护情况的理论计算与模拟计算 | 第27-31页 |
4.1.1 工业 γ 射线探伤室的理论计算 | 第27-29页 |
4.1.2 工业 γ 射线探伤室的模拟计算 | 第29-31页 |
4.2 对X射线管过滤片性能的模拟 | 第31-36页 |
4.3 X射线管在不同工况时光子产出率的模拟分析 | 第36-42页 |
4.3.1 管电压 50KV~200KV时光子产出率的模拟分析 | 第36-40页 |
4.3.2 管电压 200KV~500KV时光子产出率的模拟分析 | 第40-42页 |
4.4 对X射线管发射率常数的拟合分析 | 第42-44页 |
4.5 本章小结 | 第44-46页 |
第5章 总结与展望 | 第46-48页 |
5.1 总结 | 第46-47页 |
5.2 未来工作展望 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
在读期间发表文章目录 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |