| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1 碳纳米管 | 第10-16页 |
| 1.1 碳纳米管的发现、结构以及性质 | 第10-12页 |
| 1.2 碳纳米管制备方法 | 第12-13页 |
| 1.3 碳纳米管的物理化学性质 | 第13-14页 |
| 1.4 碳纳米管的应用 | 第14-16页 |
| 2 本论文研究的目的与意义 | 第16-18页 |
| 第二章 基于阳极化技术的热CVD法制备碳纳米管 | 第18-24页 |
| 1 阳极化处理原理 | 第18-20页 |
| 1.1 主要仪器设备 | 第19页 |
| 1.2 主要实验试剂 | 第19页 |
| 1.3 阳极化过程 | 第19-20页 |
| 2 热化学气相沉积技术 | 第20-22页 |
| 2.1 热化学气相沉积原理简介 | 第20-22页 |
| 3 热化学气相沉积技术直接制备碳纳米管工艺 | 第22-24页 |
| 3.1 主要实验仪器和设备 | 第22页 |
| 3.2 热CVD法制备碳纳米管实验过程 | 第22-24页 |
| 第三章 碳纳米管的表征技术及性能测试方法 | 第24-30页 |
| 1 扫描电子显微镜（SEM） | 第24-26页 |
| 2 碳管与基底附着力测试 | 第26-27页 |
| 3 碳纳米管场发射电子性能及稳定性测试 | 第27-30页 |
| 第四章 强附着碳纳米管生长技术及场致发射应用研究 | 第30-50页 |
| 1 强附着碳纳米管制备 | 第30-37页 |
| 1.1 强附着碳纳米管的制备过程 | 第30-31页 |
| 1.2 阳极化技术制备的碳纳米管形貌特点 | 第31-32页 |
| 1.3 阳极化技术对碳纳米管与基底结合强度的提升 | 第32-33页 |
| 1.4 附着力的提升对碳纳米管场发射性能的影响 | 第33-35页 |
| 1.5 不同制备技术制备的碳纳米管发射电流稳定性分析 | 第35-37页 |
| 1.6 小结 | 第37页 |
| 2 碳纳米管电子源设计 | 第37-39页 |
| 2.1 碳纳米管电子源结构设计 | 第37-38页 |
| 2.2 碳纳米管电子源的性能参数 | 第38-39页 |
| 2.3 小结 | 第39页 |
| 3 基于阳极化技术制备的碳纳米管电离真空计的应用研究 | 第39-50页 |
| 3.1 碳纳米管电离真空计的结构设计与研究内容 | 第40-41页 |
| 3.2 基于阳极化技术制备的碳纳米管电离真空计性能研究 | 第41-49页 |
| 3.3 小结 | 第49-50页 |
| 总结与展望 | 第50-52页 |
| 1 总结 | 第50页 |
| 2 展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
| 攻读硕士期间发表的论文目录 | 第58页 |
