| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 铝合金及其应用 | 第9页 |
| 1.2 铝合金表面处理技术 | 第9-12页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第12-17页 |
| 1.3.1 微弧氧化技术基本过程 | 第12-13页 |
| 1.3.2 微弧氧化技术原理 | 第13-15页 |
| 1.3.3 微弧氧化技术的特点 | 第15-17页 |
| 1.4 微弧氧化技术的发展现状 | 第17-19页 |
| 1.4.1 国内外发展现状 | 第17-18页 |
| 1.4.2 自润滑涂层发展现状 | 第18-19页 |
| 1.5 本文的研究内容和研究路线 | 第19-20页 |
| 第2章 实验设备及实验方法 | 第20-26页 |
| 2.1 实验材料与试剂 | 第20-21页 |
| 2.2 实验设备及仪器 | 第21-25页 |
| 2.3 实验方案 | 第25-26页 |
| 第3章 电解液参数的优化 | 第26-41页 |
| 3.1 起弧电压与反应时间对微弧氧化的影响 | 第27-29页 |
| 3.1.1 起弧电压的确定 | 第27-28页 |
| 3.1.2 反应时间对微弧氧化过程的影响 | 第28-29页 |
| 3.2 正交实验结果分析 | 第29-33页 |
| 3.2.1 膜厚正交实验 | 第31-32页 |
| 3.2.2 硬度正交实验 | 第32-33页 |
| 3.3 电解液参数的单因素分析 | 第33-40页 |
| 3.3.1 硅酸钠对陶瓷层性能结构的影响 | 第33-36页 |
| 3.3.2 钨酸钠对陶瓷层性能结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.3.3 氢氧化钾对陶瓷层性能结构的影响 | 第38-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 电参数优化 | 第41-54页 |
| 4.1 正负电压的优化 | 第41-47页 |
| 4.1.1 正负向电压对陶瓷层膜厚的影响 | 第42-45页 |
| 4.1.2 正负向电压对陶瓷层表面形貌的影响 | 第45-47页 |
| 4.2 占空比对陶瓷层结构的影响 | 第47-50页 |
| 4.3 频率对陶瓷层的影响 | 第50-53页 |
| 4.3.1 频率对陶瓷层膜厚的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.2 频率对陶瓷层耐腐蚀性的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.3 频率对陶瓷层显微硬度的影响 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 自润滑陶瓷层的制备与特性研究 | 第54-68页 |
| 5.1 MoS_2对陶瓷层结构的影响 | 第55-59页 |
| 5.1.1 对陶瓷层膜厚的影响 | 第55页 |
| 5.1.2 对表面形貌的影响 | 第55-57页 |
| 5.1.3 对陶瓷层成分的影响 | 第57-59页 |
| 5.2 MoS_2对陶瓷层性能的影响 | 第59-67页 |
| 5.2.1 MoS_2对陶瓷层表面粗糙度和硬度的影响 | 第59-60页 |
| 5.2.2 摩擦系数分析 | 第60-63页 |
| 5.2.3 陶瓷层磨损前后形貌分析 | 第63-65页 |
| 5.2.4 磨损量分析 | 第65-66页 |
| 5.2.5 MoS_2对陶瓷层相组成的影响 | 第66-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-68页 |
| 第6章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 本文结论 | 第68-69页 |
| 6.2 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 作者简介 | 第76页 |