| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 金属非晶 | 第10-14页 |
| 1.1.1 金属非晶的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.1.2 金属非晶的性能与应用 | 第11-12页 |
| 1.1.3 金属非晶的形成原理 | 第12-13页 |
| 1.1.4 金属非晶的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.2 纳米非晶 | 第14-17页 |
| 1.2.1 纳米非晶的发展 | 第14-15页 |
| 1.2.2 纳米非晶的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3 纳微米级别先进工具—聚焦离子束FIB | 第17-22页 |
| 1.3.1 FIB原理 | 第18-19页 |
| 1.3.2 聚焦离子束FIB功能 | 第19-22页 |
| 1.4 纳米非晶纳微米级尺寸力学性能研究 | 第22-25页 |
| 1.4.1 纳微米级小尺寸效应 | 第22页 |
| 1.4.2 非晶纳微米级力学性能 | 第22-23页 |
| 1.4.3 纳米非晶纳微米级力学性能 | 第23-25页 |
| 1.5 本课题的实验内容以及选题意义 | 第25-27页 |
| 2 NiP甩带非晶与NiP纳米非晶的制备 | 第27-36页 |
| 2.1 NiP合金的熔炼 | 第27-28页 |
| 2.1.1 合金熔炼 | 第27页 |
| 2.1.2 熔炼设备 | 第27页 |
| 2.1.3 熔炼实验过程 | 第27-28页 |
| 2.2 熔淬甩带制备Ni_(80)P_(20)非晶 | 第28-30页 |
| 2.2.1 甩带机工作原理 | 第28-29页 |
| 2.2.2 制备Ni_(80)P_(20)甩带非晶实验过程 | 第29-30页 |
| 2.3 脉冲电沉积法制备Ni_(80)P_(20)纳米非晶 | 第30-36页 |
| 2.3.1 脉冲电沉积原理 | 第30-31页 |
| 2.3.2 NiP脉冲电沉积实验 | 第31-36页 |
| 3 NiP甩带非晶与NiP纳米非晶的结构表征 | 第36-49页 |
| 3.1 X射线衍射分析 | 第36-37页 |
| 3.1.1 X射线衍射实验过程 | 第36-37页 |
| 3.1.2 X射线衍射结构分析 | 第37页 |
| 3.2 扫描电子显微镜分析 | 第37-40页 |
| 3.2.1 扫描电子显微镜实验过程 | 第38页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜结果分析 | 第38-39页 |
| 3.2.3 能谱成份分析 | 第39-40页 |
| 3.3 透射电子显微镜分析 | 第40-45页 |
| 3.3.1 TEM样品制备 | 第40-43页 |
| 3.3.2 TEM实验过程 | 第43-44页 |
| 3.3.3 TEM结果分析 | 第44-45页 |
| 3.3.4 扫描透射结果分析 | 第45页 |
| 3.4 小角度散射SAXS分析 | 第45-49页 |
| 3.4.1 SAXS实验过程 | 第46页 |
| 3.4.2 SAXS数据结构分析 | 第46-49页 |
| 4 NiP纳米非晶的力学表征 | 第49-64页 |
| 4.1 纳米压痕仪器硬度与弹性模量表征 | 第49-52页 |
| 4.1.1 纳米压痕仪器测试原理 | 第49-50页 |
| 4.1.2 纳米压痕仪器测硬度与模量结果分析 | 第50-52页 |
| 4.2 纳米非晶压缩力学性能研究 | 第52-60页 |
| 4.2.1 聚焦离子束FIB制备微米级别压缩柱子 | 第52-54页 |
| 4.2.2 纳微米级别柱子压缩结果分析 | 第54-60页 |
| 4.3 纳米非晶原位拉伸力学性能研究 | 第60-64页 |
| 4.3.1 纳米非晶纳米级别拉伸试样制备 | 第60-61页 |
| 4.3.2 纳米非晶纳米级别原位拉伸试样实验过程 | 第61-62页 |
| 4.3.3 纳米非晶纳米级别原位拉伸实验结果分析 | 第62-64页 |
| 5 结论与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 结论 | 第64页 |
| 5.2 展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 附录 | 第74页 |
