| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 文献综述及选题 | 第11-37页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·催化中的纳米概念 | 第11-12页 |
| ·催化中的空间限域效应 | 第12-20页 |
| ·孔道限域 | 第13-17页 |
| ·层间限域 | 第17-18页 |
| ·核壳结构限域 | 第18-20页 |
| ·核壳型纳米复合催化材料 | 第20-23页 |
| ·有机物型 | 第20-21页 |
| ·无机物型 | 第21-23页 |
| ·掺杂型介孔复合催化材料 | 第23-24页 |
| ·杂原子掺杂介孔氧化硅 | 第23-24页 |
| ·介孔碳骨架掺杂 | 第24页 |
| ·选题思路、研究内容及创新点 | 第24-27页 |
| ·选题思路 | 第24-26页 |
| ·研究内容 | 第26页 |
| ·创新点 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-37页 |
| 第二章 实验部分 | 第37-47页 |
| ·化学试剂及仪器 | 第37-39页 |
| ·实验试剂和气体 | 第37-38页 |
| ·实验仪器 | 第38-39页 |
| ·实验方法 | 第39-41页 |
| ·“一步共热解法”Cu@Carbon核壳结构纳米催化剂的制备 | 第39-40页 |
| ·碳包覆氧化锌、氧化镍M@Carbon(M=ZnO,N iO)核壳结构的制备 | 第40页 |
| ·Cu/MSC催化剂的制备 | 第40-41页 |
| ·材料形貌及结构表征 | 第41-43页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第41页 |
| ·扫描-透射电子显微镜(STEM)及元素分析面扫描(EDS-mapping) | 第41页 |
| ·X射线衍射 (XRD) | 第41页 |
| ·N_2吸附-脱附等温线 | 第41-42页 |
| ·红外光谱(FT-IR) | 第42页 |
| ·热重分析(TG-DTG) | 第42页 |
| ·程序升温脱附(TPD) | 第42页 |
| ·程序升温氧化(TPO) | 第42页 |
| ·N_2O氧化及H2滴定 | 第42-43页 |
| ·催化剂性能评价 | 第43-46页 |
| ·催化反应装置及反应条件 | 第43页 |
| ·气相色谱的使用 | 第43-44页 |
| ·数据处理 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 摇铃型碳包覆铜催化剂的制备及其催化性能 | 第47-67页 |
| ·引言 | 第47-49页 |
| ·Cu@Carbon催化剂的表征 | 第49-58页 |
| ·TEM | 第49-50页 |
| ·STEM | 第50-51页 |
| ·XRD | 第51页 |
| ·N_2吸附 | 第51-53页 |
| ·FT-IR | 第53-55页 |
| ·TG-DTG | 第55-57页 |
| ·制备参数的影响 | 第57-58页 |
| ·合成机理探讨 | 第58-59页 |
| ·Cu@Carbon催化性能评价 | 第59-60页 |
| ·其他M@Carbon复合材料的制备 | 第60-63页 |
| ·TEM/EDS | 第61页 |
| ·XRD | 第61-62页 |
| ·N2吸附 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 第四章 硅掺杂介孔碳负载铜催化剂的制备及其催化性能 | 第67-81页 |
| ·引言 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-78页 |
| ·N2吸附 | 第68-70页 |
| ·XRD | 第70页 |
| ·TEM | 第70-71页 |
| ·FT-IR及TG | 第71-72页 |
| ·N_2O-H_2滴定 | 第72-73页 |
| ·CO-TPD | 第73-74页 |
| ·O_2-TPO | 第74-75页 |
| ·催化剂性能评价 | 第75-76页 |
| ·反应后的催化剂表征 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 第五章 总结与建议 | 第81-82页 |
| ·总结 | 第81页 |
| ·建议 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 在读期间研究成果 | 第84页 |