| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-11页 |
| 1 综述 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·自旋电子学的发展史 | 第11-13页 |
| ·Ⅳ族基半导体自旋电子学 | 第13-14页 |
| ·磁性分类 | 第14-15页 |
| ·磁电阻的机理 | 第15-16页 |
| ·本论文的思路以及工作安排 | 第16-19页 |
| 2 薄膜的制备及分析表征 | 第19-33页 |
| ·前言 | 第19页 |
| ·薄膜的制备 | 第19-23页 |
| ·衬底清洗 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜样品 | 第20-23页 |
| ·薄膜样品的后退火处理 | 第23-24页 |
| ·薄膜结构及性能的表征 | 第24-33页 |
| ·薄膜厚度的表征 | 第24-25页 |
| ·X射线衍射分析 | 第25-26页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第26-27页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| ·振动样品磁强计 | 第28-30页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第30-33页 |
| 3 具有不同Si层厚度的Co/Si薄膜的结构和磁性 | 第33-39页 |
| ·前言 | 第33页 |
| ·实验过程 | 第33-34页 |
| ·Co/Si薄膜的结构 | 第34-35页 |
| ·Co/Si薄膜的磁性 | 第35-37页 |
| ·Co/Si薄膜的电阻 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 4 Fe/X(X=C,S i,Ge)薄膜的结构,磁性和磁输运性质 | 第39-49页 |
| ·前言 | 第39页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·Fe/X薄膜的结构 | 第40-41页 |
| ·Fe/X薄膜的磁性 | 第41-43页 |
| ·Fe/X薄膜X射线光电子能谱的分析 | 第43-45页 |
| ·Fe/X薄膜的电阻与磁电阻效应 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 衬底不同的Fe/Si薄膜结构和性能的影响 | 第49-55页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·实验过程 | 第49-50页 |
| ·衬底不同的Fe薄膜结构和磁性 | 第50-51页 |
| ·衬底不同的Fe/Si薄膜磁性和磁电阻效应 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 6 结论 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 附录 攻读硕士期间发表的论文 | 第67页 |