| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 序言 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化剂的概述 | 第11-14页 |
| ·半导体 | 第11-12页 |
| ·半导体光催化剂 | 第12页 |
| ·半导体光催化反应机理 | 第12-14页 |
| ·M_xO_y型二元金属氧化物半导体光催化剂的研究 | 第14-15页 |
| ·M_xO_y型二元金属氧化物半导体 | 第14-15页 |
| ·M_xO_y型金属氧化物半导体的不足 | 第15页 |
| ·A_B_yO_z型三元金属氧化物半导体光催化剂的研究 | 第15-22页 |
| ·A_B_yO_z型三元金属氧化物半导体光催化剂 | 第15-16页 |
| ·Bi_2WO_6半导体纳米光催化剂的研究 | 第16-18页 |
| ·Zn_2GeO_4半导体纳米光催化剂的研究 | 第18-19页 |
| ·Bi_2WO_6和 Zn_2GeO_4半导体光催化剂的改性 | 第19-22页 |
| ·离子掺杂 | 第19-20页 |
| ·贵金属沉积 | 第20-21页 |
| ·复合 | 第21-22页 |
| ·论文研究意义及内容 | 第22-24页 |
| ·论文研究意义 | 第22页 |
| ·论文研究内容 | 第22-24页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6材料的制备及其光催化性能研究 | 第22页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4材料的制备及其光催化性能研究 | 第22-23页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第23-24页 |
| 第二章 N 掺杂 Bi_2WO_6材料的制备及其光催化性能研究 | 第24-37页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-28页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第25-26页 |
| ·主要原料及其来源 | 第25页 |
| ·主要仪器 | 第25-26页 |
| ·实验内容 | 第26页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的制备 | 第26页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的光催化性能测试 | 第26页 |
| ·样品表征 | 第26-28页 |
| ·X 射线粉末衍射仪（XRD） | 第26-27页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和电子能谱仪（EDS） | 第27页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第27页 |
| ·比表面（BET）及孔径分析仪 | 第27页 |
| ·紫外/可见光谱仪 | 第27页 |
| ·电化学工作站 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-36页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的结构表征 | 第28-34页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的 FE-SEM 分析 | 第28页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的 EDS 分析 | 第28-30页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的时间演变分析 | 第30页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的 XRD 分析 | 第30-31页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的比表面积（BET）和孔径分析 | 第31-32页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的紫外/可见光谱分析 | 第32页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的瞬态光电流响应分析 | 第32-34页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的性能研究 | 第34-36页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的光催化性能研究 | 第34-35页 |
| ·N 掺杂 Bi_2WO_6光催化材料的光催化机理研究 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 Ag 修饰 Zn_2GeO_4材料的制备及其光催化性能研究 | 第37-51页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验部分 | 第38-40页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第38页 |
| ·主要原料及其来源 | 第38页 |
| ·主要仪器 | 第38页 |
| ·实验内容 | 第38-39页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的制备 | 第38-39页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的光催化性能测试 | 第39页 |
| ·样品表征 | 第39-40页 |
| ·X 射线粉末衍射仪（XRD） | 第39-40页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和电子能谱仪（EDS） | 第40页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第40页 |
| ·比表面（BET）及孔径分析仪 | 第40页 |
| ·X 射线光电子能谱仪 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-49页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的制备 | 第40-41页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的结构表征 | 第41-45页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的 FE-SEM 分析 | 第41-42页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的 TEM 分析 | 第42页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的 XRD 分析 | 第42-43页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的 BET 分析 | 第43-44页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的 EDS 分析 | 第44页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的 XPS 分析 | 第44-45页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的性能研究 | 第45-49页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的光催化降解性能研究 | 第45-47页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4材料光催化降解 RhB 水溶液 | 第46页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4材料光催化降解苯酚水溶液 | 第46-47页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的稳定性研究 | 第47-48页 |
| ·Ag 修饰 Zn_2GeO_4光催化材料的光催化机理研究 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 Zn_2GeO_4/ACFs 复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第51-64页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验部分 | 第51-56页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第51-52页 |
| ·主要原料及其来源 | 第52页 |
| ·主要仪器 | 第52页 |
| ·实验内容 | 第52-53页 |
| ·C 纤维材料的活化 | 第52页 |
| ·Zn_2GeO_4/CFs 复合材料的制备 | 第52-53页 |
| ·Zn_2GeO_4/C 纤维复合材料的光催化性能测试 | 第53页 |
| ·样品表征 | 第53-54页 |
| ·X 射线粉末衍射仪（XRD） | 第53页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和电子能谱仪（EDS） | 第53-54页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第54页 |
| ·比表面（BET）及孔径分析仪 | 第54页 |
| ·紫外/可见光谱仪 | 第54页 |
| ·计算方法 | 第54-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-63页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 纤维复合光催化材料的 XRD 分析 | 第56页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 复合光催化材料的 EDS 分析 | 第56-57页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 纤维复合光催化材料的 FE-SEM 分析 | 第57页 |
| ·负载于 C 纤维上的 Zn_2GeO_4材料的 UV-vis 分析 | 第57-58页 |
| ·负载于 C 纤维上的 Zn_2GeO_4材料的 TEM 分析 | 第58-59页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 复合光催化材料生长机理分析 | 第59-61页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 复合光催化材料的光催化性能研究 | 第61-62页 |
| ·Zn_2GeO_4/ACFs 复合光催化材料的稳定性研究 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·总结 | 第64-65页 |
| ·不足与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-78页 |
| 攻读硕士学位期间研究工作成果 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
