| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·等离子体的概念及发生装置 | 第8-14页 |
| ·等离子体的基本概念 | 第9-10页 |
| ·低温等离子体的产生方式 | 第10-14页 |
| ·材料表面结构与组分的分析方法 | 第14-18页 |
| ·扫描电子显微镜分析法 | 第14-15页 |
| ·X射线光电子能谱法 | 第15-17页 |
| ·振动光谱:红外吸收光谱和拉曼光谱 | 第17-18页 |
| ·低温等离子体表面改性的国内外发展现状 | 第18-20页 |
| ·论文研究内容 | 第20页 |
| ·研究的目的和意义 | 第20-23页 |
| ·表面研究的目的 | 第20-21页 |
| ·研究注意事项 | 第21页 |
| ·有机材料的表面改性的意义 | 第21-23页 |
| 第二章 DBD冷等离子体射流在聚合物表面改性方面的研究 | 第23-38页 |
| ·聚丙烯材料及应用介绍 | 第23页 |
| ·低温等离子体表面改性技术概述 | 第23-24页 |
| ·大气压射流冷等离子体对聚丙烯表面改性实验 | 第24-31页 |
| ·实验原材料及设备 | 第24-25页 |
| ·实验过程与结果 | 第25-31页 |
| ·实验结果与机理分析 | 第31-36页 |
| ·等离子体光谱分析 | 第31-34页 |
| ·大气压射流等离子体表面改性机理分析 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 利用介质阻挡放电等离子体制备SiO_2-like薄膜初步 | 第38-45页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积方法概述 | 第38-39页 |
| ·PECVD的特征 | 第38页 |
| ·PECVD的应用概况 | 第38-39页 |
| ·介质阻挡放电PECVD法制备SiO_2-like薄膜研究初步 | 第39-43页 |
| ·平行平板电极PECVD法沉积SiO_2-like薄膜的实验研究 | 第39-42页 |
| ·大气压射流冷等离子体PECVD沉积SiO_2-like薄膜可行性研究 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 总结 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
