激光（1.064μm）/红外（3～5μm）光学系统中滤光膜技术的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·几种窗口材料的对比 | 第12-15页 |
| ·膜系的优化方法 | 第15-18页 |
| ·遗传算法模型的建立 | 第15-16页 |
| ·算法中数学模型的建立 | 第16-18页 |
| ·红外光学材料的力学与热学性质 | 第18-21页 |
| ·透过率和吸收系数及与温度的关系 | 第21-25页 |
| 第二章 蓝宝石单晶的高温强度 | 第25-35页 |
| ·温度对蓝宝石强度的影响 | 第25-30页 |
| ·蓝宝石高温强度的改善 | 第30-35页 |
| ·热处理增加蓝宝石的高温强度 | 第30-31页 |
| ·增加晶体缺陷提高蓝宝石高温强度 | 第31-33页 |
| ·中子辐照提高压缩强度 | 第33-35页 |
| 第三章 薄膜的表征 | 第35-46页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第35-36页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第36-37页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第37-38页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析 | 第38-40页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman)分析 | 第40-42页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第42-44页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)分析 | 第44-46页 |
| 第四章 工艺参数对薄膜材料特性的影响 | 第46-69页 |
| ·二氧化硅薄膜的制备 | 第47-49页 |
| ·沉积工艺对SiO_2薄膜特性的影响 | 第49-59页 |
| ·沉积工艺参数对SiO_2薄膜附着力的影响 | 第49-51页 |
| ·沉积工艺对SiO_2沉积速率的影响 | 第51-54页 |
| ·工艺参数对SiO_2薄膜的内应力的影响 | 第54-59页 |
| ·二氧化钛薄膜的制备 | 第59-63页 |
| ·主要工艺参数对TiO_2薄膜折射率的影响 | 第60-62页 |
| ·沉积时间对表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·氧化铝保护膜的制备 | 第63-68页 |
| ·氧化铝薄膜的生长 | 第63-64页 |
| ·氧化铝薄膜的特性 | 第64-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 激光红外光学系统增透保护膜的设计与制备 | 第69-86页 |
| ·Dome上薄膜均匀性的研究 | 第69-74页 |
| ·利用透射率和反射率计算计算薄膜的光学常数 | 第74-77页 |
| ·薄膜材料折射率的计算 | 第77-79页 |
| ·增透保护膜的设计与制备 | 第79-82页 |
| ·测试结果与分析 | 第82-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 镀膜对蓝宝石强度的改善 | 第86-92页 |
| ·固体材料的理论断裂强度 | 第86-88页 |
| ·镀膜前后蓝宝石的强度测试 | 第88-92页 |
| ·试验后薄膜成分的测试 | 第89-90页 |
| ·其他性能的测试 | 第90-92页 |
| 总结 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 创新点 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-99页 |
| 攻读博士期间取得的成绩 | 第99页 |
