超低压等离子喷涂中的等离子焰流检测及涂层制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| ·等离子喷涂技术 | 第11-19页 |
| ·等离子弧的形成 | 第11-12页 |
| ·喷涂中使用的等离子气体 | 第12-13页 |
| ·等离子焰流特性 | 第13-16页 |
| ·粉末注入 | 第16-17页 |
| ·涂层的形成 | 第17-19页 |
| ·超低压下等离子喷涂 | 第19-26页 |
| ·超低压条件下的等离子焰流特征 | 第19-22页 |
| ·气压对等离子焰流的影响 | 第22-23页 |
| ·参数对涂层的影响 | 第23-24页 |
| ·超低压等离子喷涂获得的涂层及目前的研究热点 | 第24-26页 |
| ·论文的研究目的和章节构成 | 第26-28页 |
| 2 实验设备和检测方法 | 第28-52页 |
| ·超低压等离子喷涂系统 | 第28-31页 |
| ·实验设备介绍 | 第28-30页 |
| ·真空等离子喷涂与大气等离子喷涂的涂层比较 | 第30-31页 |
| ·光谱检测设备 | 第31-41页 |
| ·发射光谱检测装置 | 第31-32页 |
| ·仪器校准 | 第32-34页 |
| ·等离子体光谱诊断的基本原理 | 第34-39页 |
| ·压力对发射谱线强度的影响 | 第39-40页 |
| ·低压等离子喷涂中光谱诊断的相关研究 | 第40-41页 |
| ·焓探针检测设备 | 第41-51页 |
| ·焓探针系统介绍 | 第41-43页 |
| ·测量原理 | 第43-45页 |
| ·大气等离子喷涂下的焓探针检测 | 第45-49页 |
| ·低压下焓探针技术的应用 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 3 超低压等离子喷涂中的光学发射光谱检测 | 第52-72页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·操作参数对发射谱线的影响 | 第52-58页 |
| ·检测距离的影响 | 第52-53页 |
| ·压力的影响 | 第53-54页 |
| ·电流强度的影响 | 第54-55页 |
| ·送入粉末的影响 | 第55-58页 |
| ·等离子体电子温度的测量 | 第58-65页 |
| ·等离子焰流的电子温度 | 第58-63页 |
| ·送粉后的电子温度变化 | 第63-65页 |
| ·等离子体电子密度的测量 | 第65-70页 |
| ·Doppler效应与Stark展宽 | 第65-67页 |
| ·电子密度测量 | 第67-70页 |
| ·小结 | 第70-72页 |
| 4 超低压等离子喷涂中的焓探针检测 | 第72-88页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·探针新探头的研制 | 第72-75页 |
| ·大气等离子喷涂下新焓探针测试 | 第75-80页 |
| ·实验方法 | 第75-76页 |
| ·结果与讨论 | 第76-80页 |
| ·超低压等离子喷涂的焓探针检测 | 第80-85页 |
| ·实验方法 | 第80-81页 |
| ·结果与讨论 | 第81-85页 |
| ·小结 | 第85-88页 |
| 5 超低压等离子喷涂方法制备涂层的研究 | 第88-108页 |
| ·引言 | 第88页 |
| ·铜涂层的制备 | 第88-102页 |
| ·实验方法 | 第88-92页 |
| ·结果与讨论 | 第92-97页 |
| ·硬度与XRD分析 | 第97-99页 |
| ·加热铜块材的研究 | 第99-102页 |
| ·YSZ涂层的制备 | 第102-106页 |
| ·实验方法 | 第102-103页 |
| ·结果与讨论 | 第103-106页 |
| ·小结 | 第106-108页 |
| 结论 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-120页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
| 作者简介 | 第124-126页 |
