| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·等离子体 | 第10-12页 |
| ·等离子体的原理 | 第10-11页 |
| ·等离子体的性质 | 第11-12页 |
| ·氧化物薄膜的制备方法及国内外研究现状 | 第12-18页 |
| ·溅射法 | 第13-15页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第15-16页 |
| ·旋转喷涂法 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·低温等离子体技术应用于氧化物薄膜材料的制备与改性 | 第18页 |
| ·四氧化三铁研究概述 | 第18-21页 |
| ·磁流体 | 第18-19页 |
| ·医学及生物上的应用 | 第19页 |
| ·催化剂 | 第19-20页 |
| ·Fe_3O_4及其复合材料作为吸波材料的应用研究 | 第20页 |
| ·其他研究应用 | 第20-21页 |
| ·氧化铁在光电转换方面的优势和应用价值 | 第21-22页 |
| ·氧化铁的能带结构及其光电转换性能特点 | 第21-22页 |
| ·氧化铁光电性能的应用价值 | 第22页 |
| ·研究目的及内容 | 第22-24页 |
| ·研究目的 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 实验方法 | 第24-30页 |
| ·实验用品 | 第24页 |
| ·实验仪器列表 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射薄膜制备 | 第25-26页 |
| ·等离子体氧化 | 第26页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第26-28页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第26-27页 |
| ·XRD物相分析 | 第27页 |
| ·薄膜磁性能测量 | 第27-28页 |
| ·利用"紫外-可见分光光度计"进行样品吸光度的分析 | 第28页 |
| ·利用电化学工作站进行光电转换分析 | 第28-29页 |
| ·显微组织的SEM分析 | 第29-30页 |
| 第3章 等离子体氧化制备Fe_3O_4薄膜研究 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验过程 | 第30-31页 |
| ·等离子体氧化氧浓度对薄膜样品性能的影响 | 第31-34页 |
| ·氧浓度对薄膜样品相结构的影响 | 第31页 |
| ·氧浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第31-33页 |
| ·氧浓度对薄膜样品磁性能的影响 | 第33-34页 |
| ·等离子体氧化温度对薄膜样品性能的影响 | 第34-38页 |
| ·氧化温度对薄膜样品相结构的影响 | 第34-35页 |
| ·氧化温度对薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·氧化温度对薄膜样品磁性能的影响 | 第36-38页 |
| ·等离子体氧化时间的薄膜样品性能的影响 | 第38-41页 |
| ·氧化时间对薄膜样品相结构的影响 | 第38-39页 |
| ·氧化时间对薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·氧化时间对薄膜样品磁性能的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 Ni、Sn掺杂Fe_2O_3光催化性能研究 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·Fe_2O_3薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Sn的制备及其光催化性能研究 | 第44-49页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Sn薄膜的相结构分析 | 第44-45页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Sn薄膜的吸光度 | 第45-46页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Sn薄膜的光电化学性能的测定 | 第46-49页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Ni的制备及其光催化性能研究 | 第49-53页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Ni薄膜的相结构分析 | 第49-50页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Ni薄膜的吸光度 | 第50-51页 |
| ·Fe_2O_3掺杂Ni薄膜的光电化学性能的测定 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 结论和展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
