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微波CVD法制备高质量金刚石颗粒

摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第1章 绪论第13-35页
   ·引言第13-16页
     ·金刚石的结构第13-14页
     ·单晶金刚石的制备方法第14-16页
   ·同质基底上单晶金刚石的研究状况第16-23页
     ·金刚石基底预处理对生长的影响第16-17页
     ·沉积参数对生长的影响第17-19页
     ·改进工艺对生长的影响第19-22页
     ·获得大尺寸单晶金刚石的两种方法第22-23页
   ·异质基底上金刚石颗粒的研究状况第23-29页
     ·大金刚石颗粒的整体研究情况第24-25页
     ·大金刚石颗粒的生长第25-29页
   ·金刚石晶面的显露第29-33页
     ·甲烷浓度和基底温度的影响第30-31页
     ·N2和 O2(含氧种类)加入的影响第31页
     ·基底负偏压的影响第31-32页
     ·其他参数的影响第32页
     ·(100)面的显露机理第32-33页
   ·本论文的主要内容第33-35页
第2章 实验装置和表征手段第35-39页
   ·实验装置第35-37页
   ·金刚石膜的表征方法第37-39页
     ·扫描电子显微镜第37-38页
     ·激光拉曼光谱第38-39页
第3章 高质量金刚石颗粒的生长第39-59页
   ·(100)取向金刚石膜的制备研究第40-44页
     ·金刚石膜的生长条件第40-41页
     ·结果和讨论第41-44页
   ·不同 O2流量对金刚石形核影响的研究第44-46页
   ·金刚石颗粒的生长第46-55页
     ·金刚石颗粒的生长条件第47页
     ·对金刚石颗粒的表征第47-51页
     ·对金刚石颗粒生长的宏观解释第51-53页
     ·对金刚石颗粒生长的微观解释第53-55页
   ·结果对比第55-59页
第4章 结论第59-63页
参考文献第63-75页
攻读硕士期间已经发表的论文第75-77页
致谢第77页

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