摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-28页 |
·费-托合成研究背景及现状 | 第14-15页 |
·费-托合成反应原理 | 第15-16页 |
·费-托合成产物 | 第16-18页 |
·费-托合成工艺 | 第18-19页 |
·费-托合成反应器 | 第19-21页 |
·固定床反应器 | 第19-20页 |
·浆态床反应器 | 第20页 |
·流化床反应器 | 第20-21页 |
·费-托合成催化剂 | 第21-24页 |
·铁基催化剂 | 第22页 |
·铁基催化剂 | 第22页 |
·铁基催化剂助剂 | 第22页 |
·钴基催化剂 | 第22-24页 |
·载体 | 第23-24页 |
·助剂 | 第24页 |
·制备方法 | 第24页 |
·介孔二氧化硅泡沫及其在催化领域中应用研究现状 | 第24-26页 |
·介孔二氧化硅泡沫 | 第24-26页 |
·介孔二氧化硅泡沫在催化领域中应用 | 第26页 |
·选题目的和工作思路 | 第26-28页 |
第2章 载体和催化剂的制备、表征及费-托合成活性评价 | 第28-34页 |
·载体和催化剂制备 | 第28页 |
·实验试剂 | 第28页 |
·载体的制备方法 | 第28页 |
·催化剂的制备方法 | 第28页 |
·催化剂表征 | 第28-31页 |
·X-射线粉末衍射(XRD) | 第28-29页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第29页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
·氮气物理吸附-脱附 | 第29-30页 |
·氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第30页 |
·氢气程序升温脱附(TPD)与氧滴定 | 第30-31页 |
·费-托合成反应活性测试 | 第31-34页 |
·费-托合成反应评价装置 | 第31-32页 |
·实验气体 | 第32页 |
·费-托合成反应评价方法 | 第32页 |
·费-托合成反应计算方法 | 第32-34页 |
第3章 大孔径高比表面积介孔二氧化硅泡沫(MCF)的制备和表征 | 第34-42页 |
·引言 | 第34页 |
·实验部分 | 第34-35页 |
·介孔二氧化硅泡沫材料的制备 | 第34-35页 |
·介孔二氧化硅泡沫材料的表征 | 第35页 |
·结果与讨论 | 第35-40页 |
·X-射线粉末衍射(XRD) | 第35-36页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第36-37页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第37页 |
·氮气物理吸附-脱附 | 第37-40页 |
·本章小结 | 第40-42页 |
第4章 MCF 负载钴催化剂的费-托合成催化性能研究 | 第42-53页 |
·引言 | 第42-43页 |
·实验部分 | 第43-44页 |
·载体的制备 | 第43页 |
·催化剂的制备 | 第43-44页 |
·催化剂的表征和费-托合成反应活性评价 | 第44页 |
·结果与讨论 | 第44-52页 |
·氮气物理吸附-脱附 | 第44-45页 |
·X-射线粉末衍射(XRD) | 第45-46页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第46-48页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第48页 |
·氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第48-49页 |
·氢气程序升温脱附(TPD)和氧滴定 | 第49页 |
·费-托合成反应活性评价 | 第49-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第5章 不同孔径的 MCF 负载钴费-托合成催化剂的催化性能研究 | 第53-61页 |
·引言 | 第53-54页 |
·实验部分 | 第54页 |
·不同孔径 MCF 的制备 | 第54页 |
·催化剂的制备 | 第54页 |
·催化剂的表征和费-托合成反应活性评价 | 第54页 |
·结果与讨论 | 第54-60页 |
·氮气物理吸附-脱附 | 第54-56页 |
·X-射线粉末衍射(XRD) | 第56-57页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第57页 |
·氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第57-58页 |
·氢气程序升温脱附(TPD)和氧滴定 | 第58-59页 |
·费-托合成反应活性评价 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
论文总结 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-75页 |
第1章 参考文献 | 第63-67页 |
第2章 参考文献 | 第67-68页 |
第3章 参考文献 | 第68-70页 |
第4章 参考文献 | 第70-73页 |
第5章 参考文献 | 第73-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
附录 A 攻读学位期间的学术论文及收录情况 | 第76页 |