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介孔二氧化硅泡沫(MCF)负载的钴费-托合成催化剂的催化性能研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第1章 绪论第12-28页
   ·费-托合成研究背景及现状第14-15页
   ·费-托合成反应原理第15-16页
   ·费-托合成产物第16-18页
   ·费-托合成工艺第18-19页
   ·费-托合成反应器第19-21页
     ·固定床反应器第19-20页
     ·浆态床反应器第20页
     ·流化床反应器第20-21页
   ·费-托合成催化剂第21-24页
     ·铁基催化剂第22页
       ·铁基催化剂第22页
       ·铁基催化剂助剂第22页
     ·钴基催化剂第22-24页
       ·载体第23-24页
       ·助剂第24页
       ·制备方法第24页
   ·介孔二氧化硅泡沫及其在催化领域中应用研究现状第24-26页
     ·介孔二氧化硅泡沫第24-26页
     ·介孔二氧化硅泡沫在催化领域中应用第26页
   ·选题目的和工作思路第26-28页
第2章 载体和催化剂的制备、表征及费-托合成活性评价第28-34页
   ·载体和催化剂制备第28页
     ·实验试剂第28页
     ·载体的制备方法第28页
     ·催化剂的制备方法第28页
   ·催化剂表征第28-31页
     ·X-射线粉末衍射(XRD)第28-29页
     ·透射电子显微镜(TEM)第29页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第29页
     ·氮气物理吸附-脱附第29-30页
     ·氢气程序升温还原(H2-TPR)第30页
     ·氢气程序升温脱附(TPD)与氧滴定第30-31页
   ·费-托合成反应活性测试第31-34页
     ·费-托合成反应评价装置第31-32页
     ·实验气体第32页
     ·费-托合成反应评价方法第32页
     ·费-托合成反应计算方法第32-34页
第3章 大孔径高比表面积介孔二氧化硅泡沫(MCF)的制备和表征第34-42页
   ·引言第34页
   ·实验部分第34-35页
     ·介孔二氧化硅泡沫材料的制备第34-35页
   ·介孔二氧化硅泡沫材料的表征第35页
   ·结果与讨论第35-40页
     ·X-射线粉末衍射(XRD)第35-36页
     ·透射电子显微镜(TEM)第36-37页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第37页
     ·氮气物理吸附-脱附第37-40页
   ·本章小结第40-42页
第4章 MCF 负载钴催化剂的费-托合成催化性能研究第42-53页
   ·引言第42-43页
   ·实验部分第43-44页
     ·载体的制备第43页
     ·催化剂的制备第43-44页
   ·催化剂的表征和费-托合成反应活性评价第44页
   ·结果与讨论第44-52页
     ·氮气物理吸附-脱附第44-45页
     ·X-射线粉末衍射(XRD)第45-46页
     ·透射电子显微镜(TEM)第46-48页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第48页
     ·氢气程序升温还原(H2-TPR)第48-49页
     ·氢气程序升温脱附(TPD)和氧滴定第49页
     ·费-托合成反应活性评价第49-52页
   ·本章小结第52-53页
第5章 不同孔径的 MCF 负载钴费-托合成催化剂的催化性能研究第53-61页
   ·引言第53-54页
   ·实验部分第54页
     ·不同孔径 MCF 的制备第54页
     ·催化剂的制备第54页
   ·催化剂的表征和费-托合成反应活性评价第54页
   ·结果与讨论第54-60页
     ·氮气物理吸附-脱附第54-56页
     ·X-射线粉末衍射(XRD)第56-57页
     ·透射电子显微镜(TEM)第57页
     ·氢气程序升温还原(H2-TPR)第57-58页
     ·氢气程序升温脱附(TPD)和氧滴定第58-59页
     ·费-托合成反应活性评价第59-60页
   ·本章小结第60-61页
论文总结第61-63页
参考文献第63-75页
 第1章 参考文献第63-67页
 第2章 参考文献第67-68页
 第3章 参考文献第68-70页
 第4章 参考文献第70-73页
 第5章 参考文献第73-75页
致谢第75-76页
附录 A 攻读学位期间的学术论文及收录情况第76页

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