| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·纳米材料 | 第13-17页 |
| ·纳米材料分类 | 第13-14页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第14-17页 |
| ·晶体生长的基础理论 | 第17-28页 |
| ·晶体形核和生长模型理论 | 第17-22页 |
| ·纳米晶体晶面选择性吸附控制生长 | 第22-28页 |
| ·本论文的选题意义及主要研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 溶剂热法制备 NiS 微纳米结构及其生长机理研究 | 第30-50页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·试验部分 | 第31-32页 |
| ·试剂及仪器 | 第31页 |
| ·样品制备 | 第31-32页 |
| ·样品表征 | 第32页 |
| ·结果与分析 | 第32-45页 |
| ·XRD 分析 | 第32-38页 |
| ·SEM 分析 | 第38-41页 |
| ·TEM 分析 | 第41-45页 |
| ·生长机理分析 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第三章 溶剂热法制备菱形十二面体 NiS_2晶体及其生长机理研究 | 第50-58页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·试验部分 | 第51页 |
| ·试剂及仪器 | 第51页 |
| ·样品制备 | 第51页 |
| ·样品表征 | 第51页 |
| ·结果与分析 | 第51-54页 |
| ·XRD 分析 | 第51-52页 |
| ·SEM 分析 | 第52-53页 |
| ·TEM 分析 | 第53-54页 |
| ·菱形十二面体 NiS_2的生长机理 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 六方硒化镍 h-NiSe 形貌控制合成与生长机理研究 | 第58-84页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·试验部分 | 第59-60页 |
| ·试剂及仪器 | 第59页 |
| ·样品制备 | 第59-60页 |
| ·样品表征 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-67页 |
| ·XRD 分析 | 第60-62页 |
| ·SEM 分析 | 第62-65页 |
| ·TEM 分析 | 第65-67页 |
| ·生长机理分析 | 第67-82页 |
| ·未添加 NH_4Cl 条件下 h-NiSe 生长过程 | 第67-71页 |
| ·添加 NH_4Cl 条件下 h-NiSe 生长过程 | 第71-74页 |
| ·温度对添加 NH_4Cl 条件下 h-NiSe 形貌的影响 | 第74-77页 |
| ·无机盐对 h-NiSe 形貌的影响 | 第77-81页 |
| ·h-NiSe 晶体的生长机理 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第五章 立方二硒化镍 NiSe_2的形貌控制合成与生长机理研究 | 第84-100页 |
| ·引言 | 第84-85页 |
| ·试验部分 | 第85-86页 |
| ·试剂及仪器 | 第85页 |
| ·样品制备 | 第85-86页 |
| ·样品表征 | 第86页 |
| ·结果与讨论 | 第86-94页 |
| ·XRD 分析 | 第86-88页 |
| ·SEM 分析 | 第88-91页 |
| ·TEM 分析 | 第91-94页 |
| ·生长机理分析 | 第94-99页 |
| ·NiSe_2晶体的形成过程 | 第94-97页 |
| ·NiSe_2晶体的生长机理 | 第97-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 结论 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-116页 |
| 致谢 | 第116-117页 |
| 附录（攻读学位期间发表的学术论文） | 第117页 |
