| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·论文的研究意义 | 第10-13页 |
| ·论文结构安排 | 第13-14页 |
| 第二章 WDM系统中解复用技术简介 | 第14-21页 |
| ·WDM系统的发展现状 | 第14-17页 |
| ·WDM系统中光探测器的发展 | 第17-20页 |
| ·四镜三腔型光探测器 | 第17-18页 |
| ·一镜斜置三镜腔结构 | 第18页 |
| ·环形腔光探测器 | 第18-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 微环谐振腔的理论分析 | 第21-33页 |
| ·微环滤波器的发展 | 第21-26页 |
| ·微环谐振腔的基本理论 | 第26-31页 |
| ·微环和一个直波导的耦合模型 | 第27-28页 |
| ·微环与双直波导耦合 | 第28-30页 |
| ·微环谐振腔的重要参数 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第四章 新型的非对称串联微环滤波器 | 第33-42页 |
| ·级联的微环滤波器的发展 | 第33-34页 |
| ·串联微环谐振腔的理论分析 | 第34-36页 |
| ·非对称的微环滤波器 | 第36-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 串联微环光探测器的设计 | 第42-49页 |
| ·微环光探测器的发展 | 第42-43页 |
| ·微环光探测器的设计 | 第43-48页 |
| ·微环光探测器的基本理论模型 | 第43-45页 |
| ·微环光探测器的高速性能 | 第45-46页 |
| ·串联的微环光探测器 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第六章 微环谐振腔的制作和实验 | 第49-58页 |
| ·简介 | 第49页 |
| ·微环谐振腔存在的主要损耗 | 第49-51页 |
| ·辐射损耗 | 第49-50页 |
| ·模式转换损耗 | 第50页 |
| ·侧壁散射损耗 | 第50-51页 |
| ·非线性吸收 | 第51页 |
| ·体材料损失 | 第51页 |
| ·微环谐振腔的材料系统 | 第51-52页 |
| ·微环谐振腔的制作原理 | 第52-54页 |
| ·深紫外线光刻(Deep Ultraviolet,DUV) | 第53页 |
| ·电子束光刻(Electrom Beam Lithography,EBL) | 第53-54页 |
| ·纳米压印光刻技术(Nanoimprinting Lithography,NIL) | 第54页 |
| ·微环滤波器的测试 | 第54-57页 |
| ·微环滤波器测试平台的搭建 | 第54-56页 |
| ·被测器件和实验结果 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第65页 |
