注浆成型制备高性能氮化硅陶瓷技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 前言 | 第10-12页 |
| ·氮化硅物理化学性能 | 第12-14页 |
| ·陶瓷材料胶态成型 | 第14-16页 |
| ·传统高压注射成型 | 第14页 |
| ·低压注射成型 | 第14-15页 |
| ·流延成型 | 第15页 |
| ·凝胶注模成型 | 第15页 |
| ·直接凝固注模成型 | 第15-16页 |
| ·注浆成型 | 第16页 |
| ·陶瓷料浆稳定机理 | 第16-18页 |
| ·静电稳定机制 | 第16-17页 |
| ·空间位阻稳定机制 | 第17页 |
| ·静电空间稳定机制 | 第17-18页 |
| ·DLVO理论 | 第18-19页 |
| ·本论文的目的和意义 | 第19-20页 |
| 第二章 氮化硅粉体表面改性 | 第20-36页 |
| 前言 | 第20页 |
| ·表面改性方案及组分设计 | 第20页 |
| ·所采用粉体原料特性 | 第20-21页 |
| ·实验步骤 | 第21-22页 |
| ·设备 | 第22页 |
| ·表征与测试 | 第22-24页 |
| ·结果与分析 | 第24-34页 |
| ·自蔓燃氮化硅粉体表面化学键分析 | 第24页 |
| ·高温氧化处理温度确定 | 第24-25页 |
| ·煅烧时间的确定 | 第25-27页 |
| ·混料时间的确定 | 第27-28页 |
| ·煅烧氮化硅粉体流变特性 | 第28页 |
| ·煅烧预处理后Zeta电位的情况 | 第28-30页 |
| ·添加NH4PA分散剂后的效果 | 第30-31页 |
| ·高固相含量料浆的制备 | 第31-32页 |
| ·烧结助剂包覆氮化硅粉体特性 | 第32-34页 |
| 本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 毛坯干燥与脱胶工艺的研究 | 第36-42页 |
| 前言 | 第36页 |
| ·干燥原理与工艺过程分析 | 第36-38页 |
| ·干燥工艺制度制定 | 第38-39页 |
| ·脱胶 | 第39-41页 |
| 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 氮化硅烧结工艺研究 | 第42-46页 |
| 前言 | 第42页 |
| ·氮化硅陶瓷烧结动力学 | 第42页 |
| ·烧结工艺研究 | 第42-45页 |
| ·烧结制度的制定 | 第42-44页 |
| ·烧结压力的影响 | 第44-45页 |
| ·显微结构分析 | 第45页 |
| 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
