| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-31页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·微波介质陶瓷材料 | 第11-12页 |
| ·微波介质陶瓷概述 | 第11页 |
| ·国内外发展及研究现状 | 第11-12页 |
| ·微波介质陶瓷的性能参数及分类 | 第12-18页 |
| ·相对介电常数(εr) | 第12-14页 |
| ·品质因子(Q·f) | 第14-16页 |
| ·谐振频率温度系数(τf) | 第16-17页 |
| ·微波介质陶瓷体系分类 | 第17-18页 |
| ·高频低介微波介质陶瓷体系 | 第18-27页 |
| ·Al_2O_3陶瓷 | 第20-21页 |
| ·MAl+2O_4(M=Mg, Zn)陶瓷 | 第21-22页 |
| ·M_2SiO_4(M=Mg, Zn)陶瓷 | 第22-24页 |
| ·MO-TiO_2(M=Mg, Zn)陶瓷 | 第24-25页 |
| ·AWO_4陶瓷 | 第25-27页 |
| ·LTCC 低介电常数微波介质陶瓷 | 第27-30页 |
| ·LTCC 技术概述 | 第27页 |
| ·LTCC 微波介质材料的性能 | 第27-28页 |
| ·LTCC 低介电常数微波介质陶瓷 | 第28-30页 |
| ·本论文研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验过程及研究方法 | 第31-37页 |
| ·样品制备 | 第31-34页 |
| ·实验原料及仪器 | 第31页 |
| ·样品制备过程 | 第31-34页 |
| ·样品的表征及测试 | 第34-37页 |
| ·密度分析 | 第34页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第34页 |
| ·差热分析(DSC-TG) | 第34-35页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第35页 |
| ·介电性能测试 | 第35-37页 |
| 第三章 ZrO_2添加对(Zn_(1-x)Mg_x)_2SiO_4基陶瓷性能的影响 | 第37-47页 |
| ·(Zn_(1-x)Mg_x)_2SiO_4微波介质陶瓷的性能研究 | 第37-40页 |
| ·(Zn_(1-x)Mg_x)_2SiO_4陶瓷的密度分析 | 第37-38页 |
| ·物相组成分析 | 第38页 |
| ·微波介电性能分析 | 第38-40页 |
| ·添加 ZrO_2的(Zn_(0.8)Mg_(0.2))_2SiO_4(ZMS)陶瓷烧结特性及微波性能 | 第40-45页 |
| ·添加 ZrO_2的(Zn_(0.8)Mg_(0.2))_2SiO_4复合陶瓷的密度 | 第41-42页 |
| ·物相组成及微观形貌分析 | 第42-44页 |
| ·介电性能分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 TiO_2复合对 99wt% (Zn_(0.8)Mg_(0.2))_2SiO_4+1.0wt% ZrO_2(ZMSZ)陶瓷性能的影响 | 第47-55页 |
| ·复合 TiO_2后 ZMSZ 陶瓷的密度 | 第47-48页 |
| ·物相组成及微观形貌分析 | 第48-52页 |
| ·微波介电性能分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 低温助烧 ZMSZ-TiO_2陶瓷的性能研究 | 第55-70页 |
| ·B_2O_3低温助烧 ZMSZT 陶瓷的研究 | 第55-61页 |
| ·添加不同量 B_2O_3后 ZMSZT 基陶瓷的密度及收缩率 | 第55-57页 |
| ·物相组成及微观形貌分析 | 第57-59页 |
| ·微波介电性能分析 | 第59-61页 |
| ·Li_2CO_3-B_2O_3复合助烧 ZMSZT 陶瓷的研究 | 第61-68页 |
| ·ZMSZT+1B+4L 前驱粉体的 TG-DSC 分析 | 第62-63页 |
| ·添加不同助烧剂后样品的密度及收缩率 | 第63-64页 |
| ·物相组成及微观形貌分析 | 第64-66页 |
| ·微波介电性能分析 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第六章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 在学期间的研究成果 | 第79页 |
