| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-39页 |
| ·研究背景及意义 | 第14-15页 |
| ·EB-PVD 技术的研究现状 | 第15-23页 |
| ·EB-PVD 技术的原理 | 第15-17页 |
| ·EB-PVD 技术的优缺点 | 第17-18页 |
| ·EB-PVD 技术的应用现状 | 第18-23页 |
| ·YSZ 及Ni-YSZ 涂层在SOFC 中的应用现状 | 第23-33页 |
| ·SOFC 的研究进展简介 | 第23-26页 |
| ·SOFC 的中低温化 | 第26-27页 |
| ·YSZ 及Ni-YSZ 涂层在中温SOFC 中的应用 | 第27-31页 |
| ·多孔金属支撑型SOFC 的研究进展 | 第31-33页 |
| ·EB-PVD 制备SOFC 材料的研究现状 | 第33-37页 |
| ·EB-PVD 工艺制备SOFC 材料的优势 | 第33-34页 |
| ·EB-PVD 制备YSZ 电解质涂层的研究现状 | 第34-35页 |
| ·EB-PVD 制备Ni-YSZ 阳极涂层的研究现状 | 第35-36页 |
| ·EB-PVD 制备金属连接体抗氧化涂层的研究现状 | 第36-37页 |
| ·本文主要研究内容 | 第37-39页 |
| 第2章 材料制备及实验方法 | 第39-49页 |
| ·涂层材料的制备 | 第39-41页 |
| ·EB-PVD 设备简介 | 第39-41页 |
| ·涂层的制备工艺 | 第41页 |
| ·涂层的成分及显微结构分析方法 | 第41-44页 |
| ·X 射线荧光光谱(XRF)分析 | 第41-42页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第42页 |
| ·扫描电镜(SEM)和电子探针分析(EPMA) | 第42页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第42-43页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第43-44页 |
| ·DTA-TG 分析 | 第44页 |
| ·涂层的性能测试及表征 | 第44-48页 |
| ·阳极涂层的孔结构表征 | 第44-45页 |
| ·电解质涂层的气密性表征 | 第45-47页 |
| ·电解质涂层电导率的测试 | 第47-48页 |
| ·燃料电池输出性能测试 | 第48-49页 |
| 第3章 EB-PVD 制备YSZ 电解质涂层的研究 | 第49-74页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·制备工艺对电解质涂层的影响 | 第49-55页 |
| ·沉积速率对致密性的影响 | 第50-52页 |
| ·靶基距对表面粗糙度的影响 | 第52页 |
| ·入射角对晶体取向的影响 | 第52-55页 |
| ·YSZ 电解质涂层的成分及显微结构 | 第55-66页 |
| ·涂层的物相及缺陷分析 | 第56-58页 |
| ·涂层的表面、断面形貌及厚度均匀性 | 第58-60页 |
| ·涂层的成分分析 | 第60-63页 |
| ·涂层的TEM 表征 | 第63-66页 |
| ·YSZ 电解质涂层的性能 | 第66-72页 |
| ·YSZ 电解质涂层的气密性 | 第67-69页 |
| ·YSZ 电解质涂层的电导率 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第4章 YSZ 电解质涂层的致密化处理 | 第74-91页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·涂层的致密化工艺 | 第74-80页 |
| ·溶胶的配置 | 第74-75页 |
| ·溶胶体系对涂层的润湿性 | 第75-76页 |
| ·涂层的溶胶浸渗处理工艺 | 第76页 |
| ·浸渗处理后烧结工艺的确定 | 第76-80页 |
| ·致密化处理对电解质涂层组织及性能的影响 | 第80-88页 |
| ·致密化处理对电解质涂层气密性的影响 | 第80-82页 |
| ·致密化处理对电解质涂层显微结构的影响 | 第82-84页 |
| ·致密化处理对电解质涂层电导率的影响 | 第84-88页 |
| ·单电池输出性能 | 第88-90页 |
| ·致密化处理对开路电压的影响 | 第88-89页 |
| ·致密化处理对输出功率密度的影响 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 第5章 EB-PVD 制备Ni-YSZ 及NiO-YSZ 阳极涂层的研究 | 第91-122页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·Ni-YSZ 阳极涂层的制备工艺及性能 | 第91-103页 |
| ·Ni-YSZ 阳极涂层的制备工艺 | 第91-94页 |
| ·Ni-YSZ 涂层的相组成 | 第94-95页 |
| ·Ni-YSZ 涂层的成分分布 | 第95-96页 |
| ·涂层成分对孔隙率及电导率的影响 | 第96-98页 |
| ·Ni-YSZ 涂层的微观形貌 | 第98-101页 |
| ·Ni-YSZ 涂层的比表面积及孔径分布 | 第101-103页 |
| ·NiO-YSZ 阳极涂层的制备工艺及性能 | 第103-114页 |
| ·NiO-YSZ 阳极涂层的制备工艺 | 第103-106页 |
| ·均匀NiO-YSZ 涂层的显微结构及性能 | 第106-112页 |
| ·梯度NiO-YSZ 涂层的显微结构及性能 | 第112-114页 |
| ·NiO-YSZ 阳极与YSZ 电解质涂层的连续沉积 | 第114-121页 |
| ·多孔金属支撑体的选择及性能 | 第115-116页 |
| ·EB-PVD 连续沉积NiO-YSZ 阳极及电解质涂层 | 第116-121页 |
| ·本章小结 | 第121-122页 |
| 结论 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-139页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第139-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |
| 个人简历 | 第142页 |
