IPN/Ni复合LB膜的制备及界面研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题背景 | 第9页 |
| ·聚合物与金属界面的研究现状 | 第9-13页 |
| ·含氧基团聚合物与金属界面作用研究 | 第10-11页 |
| ·含氮基团聚合物与金属界面作用研究 | 第11-12页 |
| ·主要研究方法与手段 | 第12-13页 |
| ·LB膜研究动向 | 第13-15页 |
| ·LB膜的光存储特性 | 第13页 |
| ·导电LB膜 | 第13-14页 |
| ·绝缘LB膜 | 第14页 |
| ·LB膜仿生合成纳米材料 | 第14-15页 |
| ·论文选题及主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第17-23页 |
| ·实验药品与仪器 | 第17-18页 |
| ·实验所需药品 | 第17页 |
| ·实验所需仪器及设备 | 第17-18页 |
| ·薄膜制备技术 | 第18-19页 |
| ·表征和分析方法 | 第19-23页 |
| ·膜压-面积曲线的测定方法 | 第19-20页 |
| ·红外光谱分析方法 | 第20页 |
| ·X射线光电子能谱分析方法 | 第20-22页 |
| ·原子力显微镜分析方法 | 第22-23页 |
| 第3章 Ni纳米金属层的制备与表征 | 第23-37页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·硬脂酸/Ni复合LB膜的制备 | 第23-24页 |
| ·硬脂酸/Ni成膜工艺参数的确定 | 第24-30页 |
| ·亚相浓度对硬脂酸/Ni单分子层崩溃压的影响 | 第24-26页 |
| ·pH值对硬脂酸/Ni单分子层崩溃压的影响 | 第26-27页 |
| ·滑障速度对硬脂酸/Ni单分子层崩溃压的影响 | 第27-28页 |
| ·静止时间对硬脂酸/Ni单分子层崩溃压的影响 | 第28-29页 |
| ·铺展量对硬脂酸/Ni单分子层崩溃压的影响 | 第29-30页 |
| ·硬脂酸/Ni拉膜过程工艺参数的确定 | 第30-33页 |
| ·转移膜压对转移比的影响 | 第30-31页 |
| ·基片提拉速度对转移比的影响 | 第31-32页 |
| ·pH值对转移比的影响 | 第32-33页 |
| ·硬脂酸/Ni复合膜的还原处理 | 第33页 |
| ·复合膜及Ni金属层的表征 | 第33-36页 |
| ·红外图谱表征及分析 | 第33-34页 |
| ·原子力显微镜图谱表征及分析 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 IPN/Ni复合膜的制备及界面分析 | 第37-60页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·IPN/Ni复合膜的制备 | 第37-42页 |
| ·IPN的制备 | 第37-39页 |
| ·覆盖IPN方法的选取及基片的处理 | 第39-40页 |
| ·IPN体系的相关反应 | 第40-42页 |
| ·硬脂酸/Ni/IPN拉膜过程工艺参数的确定 | 第42-44页 |
| ·转移膜压对转移比的影响 | 第42-43页 |
| ·提拉速度对转移比的影响 | 第43-44页 |
| ·硬脂酸/Ni/IPN复合膜的还原处理 | 第44页 |
| ·IPN与Ni界面连接机理研究 | 第44-59页 |
| ·原子力显微镜图谱表征及分析 | 第44-46页 |
| ·红外图谱表征及分析 | 第46-50页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第50-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
