| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 前言 | 第10-12页 |
| 第2章 文献综述 | 第12-30页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第12-15页 |
| ·ZnO的光电特性及应用 | 第15-17页 |
| ·ZnO的光电特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO的应用 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射 | 第18-19页 |
| ·分子束外延 | 第19-20页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第20页 |
| ·p型ZnO薄膜的掺杂及研究进展 | 第20-29页 |
| ·本征p型ZnO | 第21-22页 |
| ·Ⅰ族元素掺杂 | 第22-23页 |
| ·Ⅴ族元素掺杂 | 第23-27页 |
| ·施主-受主共掺 | 第27-29页 |
| ·立题思路及主要研究内容 | 第29-30页 |
| 第3章 实验原理和实验过程 | 第30-39页 |
| ·MOCVD沉积系统 | 第30-34页 |
| ·MOCVD系统简介 | 第30-33页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的实验步骤 | 第33-34页 |
| ·PLD沉积系统 | 第34-38页 |
| ·PLD系统简介 | 第34-35页 |
| ·本课题所用的PLD系统 | 第35-37页 |
| ·锑掺杂ZnO薄膜的实验步骤 | 第37-38页 |
| ·薄膜质量及性能表征 | 第38-39页 |
| 第4章 掺杂源温度对磷掺杂Zno薄膜的性能影响及掺杂机理研究 | 第39-51页 |
| ·T_P对磷掺杂薄膜性能的影响 | 第39-45页 |
| ·T_P对磷掺杂ZnO薄膜电学性能的影响 | 第39-41页 |
| ·T_P对磷掺杂ZnO薄膜形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·TP对磷掺杂ZnO薄膜光学性能的影响 | 第42-44页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的结晶性能 | 第44-45页 |
| ·MOCVD法制备磷掺杂p型ZnO薄膜生长参数总结 | 第45-46页 |
| ·磷掺入ZnO薄膜的掺杂机理分析 | 第46-51页 |
| 第5章 锑掺杂p型ZnO薄膜的制备及性能研究 | 第51-66页 |
| ·锑掺杂ZnO薄膜的形貌表征 | 第51-53页 |
| ·衬底温度对锑掺杂ZnO薄膜生长的影响 | 第53-57页 |
| ·衬底温度对锑掺杂ZnO薄膜质量的影响 | 第53-54页 |
| ·衬底温度对锑掺杂ZnO薄膜电学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·衬底温度对锑掺杂ZnO薄膜光学性能的影响 | 第55-57页 |
| ·氧气流量对锑掺杂ZnO薄膜生长的影响 | 第57-60页 |
| ·氧气流量对锑掺杂ZnO薄膜质量的影响 | 第57-59页 |
| ·氧气流量对锑掺杂ZnO薄膜电学性能的影响 | 第59页 |
| ·氧气流量对锑掺杂ZnO薄膜光学性能的影响 | 第59-60页 |
| ·衬底类型对锑掺杂ZnO薄膜结晶质量的影响 | 第60-61页 |
| ·锑掺入ZnO薄膜的掺杂机理分析 | 第61-63页 |
| ·锑掺杂p型ZnO薄膜工作展望 | 第63页 |
| ·磷和锑掺杂p型ZnO薄膜性能的一些比较 | 第63-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |