| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 引言 | 第8-15页 |
| ·我国半导体晶片快速热处理技术现状及产业概况 | 第8-14页 |
| ·RTP系统简介 | 第9-11页 |
| ·我国自主RTP系统研究 | 第11-13页 |
| ·本课题中RTP系统构思 | 第13-14页 |
| ·本文进行的研究工作 | 第14-15页 |
| 2 加热子系统 | 第15-43页 |
| ·加热方式的选择及光源分布方式 | 第15-16页 |
| ·辐射换热角系数计算式 | 第16-18页 |
| ·卤素钨灯功率估算 | 第18-20页 |
| ·加热均匀性分析 | 第20-32页 |
| ·加热均匀性的设计参数优化分析 | 第32-43页 |
| ·几何参数A对加热均匀性影响的仿真分析 | 第32-35页 |
| ·几何参数B对加热均匀性影响的仿真分析 | 第35-38页 |
| ·几何参数D对加热均匀性影响的仿真分析 | 第38-41页 |
| ·三个几何参数对辐射面热源加热均匀性影响力仿真分析结果的总结 | 第41-43页 |
| 3 冷却子系统 | 第43-53页 |
| ·冷却方式选择 | 第43-45页 |
| ·使用低沸点介质的间接冷却 | 第43页 |
| ·循环压缩式间接制冷 | 第43-44页 |
| ·气体绝热膨胀制冷 | 第44页 |
| ·涡流管制冷方式 | 第44-45页 |
| ·冷却气体选择 | 第45-46页 |
| ·采用冲击射流直喷冷却方式的传热学分析 | 第46-51页 |
| ·RTP系统中晶片的等效冷却简化模型 | 第46-47页 |
| ·冲击射流直喷冷却模型效能的传热学分析与计算 | 第47-51页 |
| ·冷却过程气体流速控制 | 第51-53页 |
| 4 测温子系统 | 第53-70页 |
| ·测温方式选择 | 第53-55页 |
| ·光纤传输技术在测温系统中的应用方式及实验研究 | 第55-69页 |
| ·光纤传输系统的选型计算 | 第56-58页 |
| ·光纤传输非接触测温系统基本结构 | 第58-59页 |
| ·光纤传输非接触测温的验证性实验 | 第59-69页 |
| ·光纤传输应用结论 | 第69页 |
| ·测温子系统原理结构 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 在学研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |