| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| CONTENT | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·Cu基块体非晶合金的研究概况 | 第11-13页 |
| ·块体非晶合金的制备方法 | 第13-16页 |
| ·离子注入技术 | 第16-23页 |
| ·离子注入技术 | 第16-17页 |
| ·离子注入金属表面改性的影响因素及应用 | 第17-21页 |
| ·MEVVA源金属离子注入 | 第21-23页 |
| ·磁电阻效应 | 第23-24页 |
| ·选题意义及主要内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法 | 第26-33页 |
| ·试样制备方法 | 第26-30页 |
| ·实验设备及基本原理 | 第26-27页 |
| ·合金体系成份的选取 | 第27-30页 |
| ·块体非晶合金的制备 | 第30-33页 |
| 第三章 块体非晶合金的热学及力学性能 | 第33-43页 |
| ·块体非晶合金晶化动力学分析方法 | 第33-35页 |
| ·Kissinger法 | 第33-34页 |
| ·Ozawa法 | 第34-35页 |
| ·Cu_(48)Zr_(45)Al_7块体非晶合金的晶化行为 | 第35-39页 |
| ·Cu_(48)Zr_(45)Al_7块体非晶合金表观激活能的计算 | 第37-39页 |
| ·结果与分析 | 第39页 |
| ·热处理对Cu_(55)Zr_(40)Al_5块体非晶合金的硬度及摩擦性能影响 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Cu基块体非晶合金的离子注入及对其性能的影响 | 第43-55页 |
| ·实验方法 | 第43-46页 |
| ·样品的预处理 | 第43页 |
| ·实验设备 | 第43-44页 |
| ·离子注入工艺参数 | 第44-46页 |
| ·离子注入后的相结构 | 第46-47页 |
| ·离子注入对晶化行为的影响 | 第47-49页 |
| ·离子注入对显微硬度的影响 | 第49页 |
| ·钴元素的浓度分布 | 第49-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 Cu基块体非晶合金离子注入后的磁电阻性能 | 第55-64页 |
| ·电阻率的测量方法 | 第55-56页 |
| ·离子注入对电阻率(无磁场)的影响 | 第56-57页 |
| ·Cu基块体非晶合金离子注入后的磁电阻效应 | 第57-62页 |
| ·颗粒体系的磁电阻效应 | 第57-59页 |
| ·离子注入后的磁电阻性能 | 第59-61页 |
| ·分析与讨论 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-67页 |
| 论文创新点 | 第66页 |
| 有待进一步开展的工作 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
