| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-10页 |
| 插图清单 | 第10-12页 |
| 表格清单 | 第12-13页 |
| 第一章 综述 | 第13-23页 |
| ·研究背景及意义 | 第13页 |
| ·类金刚石薄膜的微结构 | 第13-14页 |
| ·类金刚石薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·离子束沉积 | 第15页 |
| ·磁过滤式真空阴极弧(FCVA)技术 | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第16页 |
| ·磁控溅射 | 第16-17页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积(PECVD) | 第17-18页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第18-20页 |
| ·红外窗口器件 | 第18页 |
| ·冷阴极场发射显示器 | 第18-19页 |
| ·生物医学上的应用 | 第19-20页 |
| ·类金刚石薄膜的表征 | 第20-22页 |
| ·机械性能表征 | 第20-21页 |
| ·形貌表征 | 第21-22页 |
| ·结构表征 | 第22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 类金刚石薄膜的制备及工艺研究 | 第23-34页 |
| ·磁控溅射原理、溅射率及设备简介 | 第23-29页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23-25页 |
| ·溅射率 | 第25-28页 |
| ·设备简介 | 第28-29页 |
| ·实验过程 | 第29-30页 |
| ·沉积工艺研究 | 第30-33页 |
| ·sp~3含量与溅射工艺的关系 | 第30-32页 |
| ·溅射速率与工作气压的关系 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 直流、射频磁控溅射制备DLC形貌、结构及对比 | 第34-43页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·DLC的形貌 | 第34-38页 |
| ·AFM形貌及对比 | 第34-37页 |
| ·SEM形貌及对比 | 第37-38页 |
| ·结构表征 | 第38-42页 |
| ·薄膜的拉曼光谱(Raman) | 第38-41页 |
| ·薄膜的X光电子能谱(XPS) | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Ti/TiN/DLC多层膜的制备及性能研究 | 第43-51页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·Ti/TiN/DLC多层膜的致硬机理 | 第44页 |
| ·Ti/TiN/DLC多层膜的制备 | 第44-45页 |
| ·Ti/TiN/DLC多层膜的表征 | 第45-48页 |
| ·XRD表征 | 第45-46页 |
| ·Raman光谱 | 第46-47页 |
| ·SEM形貌 | 第47-48页 |
| ·Ti/TiN/DLC多层膜的硬度研究 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 CNx薄膜的制备及其光谱特性 | 第51-57页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·CNx膜的制备 | 第52-53页 |
| ·结构和形貌表征 | 第53-56页 |
| ·CNx拉曼光谱(Raman) | 第53-54页 |
| ·CNx薄膜的X射线光电子能谱(XPS) | 第54-56页 |
| ·SEM形貌 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第63页 |