摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第1章 文献综述 | 第12-38页 |
·前言 | 第12页 |
·ZnO 的结构 | 第12-14页 |
·ZnO 的固有缺陷和荧光性质 | 第14-16页 |
·ZnO 掺杂的研究进展 | 第16-30页 |
·H 元素的掺杂 | 第16-17页 |
·施主掺杂 | 第17-18页 |
·受主掺杂 | 第18-30页 |
·ZnO 的应用 | 第30-32页 |
·光电器件 | 第30-31页 |
·透明导电薄膜 | 第31-32页 |
·ZnO 作为光电材料研究中存在的主要问题 | 第32-33页 |
·ZnO 薄膜的制备方法 | 第33-35页 |
·磁控溅射 | 第33-34页 |
·脉冲激光沉积 | 第34页 |
·分子束外延 | 第34页 |
·金属有机化学气相沉积 | 第34-35页 |
·喷涂热分解 | 第35页 |
·薄膜的形成过程 | 第35-36页 |
·本文的选题依据及主要研究内容 | 第36-37页 |
·主要创新点 | 第37-38页 |
第2章 样品的制备及表征 | 第38-50页 |
·薄膜样品的制备 | 第38-43页 |
·磁控溅射系统 | 第38-39页 |
·溅射原理 | 第39-42页 |
·靶材的制备 | 第42页 |
·衬底的选择与处理 | 第42-43页 |
·样品的制备过程 | 第43页 |
·表征方法介绍 | 第43-50页 |
·结构和成分分析 | 第43-45页 |
·表面形貌观察 | 第45-46页 |
·电学测量 | 第46-48页 |
·光学测量 | 第48-50页 |
第3章 纯ZnO 薄膜结构性能的研究 | 第50-59页 |
·ZnO 薄膜与粉末的结构和性能 | 第50-51页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第50-51页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第51页 |
·紫外可见光吸收光谱(UV-Vis) | 第51页 |
·生长和热处理条件对ZnO 薄膜与粉末的结构和性能的影响 | 第51-58页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第52-53页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第53-55页 |
·光学性能 | 第55-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第4章 As 掺杂ZnO 薄膜的结构性能研究 | 第59-86页 |
·溅射Zn_3AS_2/ZnO 靶制备的ZnO 薄膜结构性能研究 | 第59-74页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第59-64页 |
·As 掺杂ZnO 薄膜表面形貌(AFM、SEM) | 第64-66页 |
·X-射线能量散射谱(EDS) | 第66-68页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第68-70页 |
·霍尔效应 | 第70-73页 |
·紫外-可见光透光光谱(UV-Vis) | 第73-74页 |
·共溅射Zn_3AS_2 和ZnO 靶制备ZnO 薄膜结构性能研究 | 第74-85页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第74-76页 |
·As 掺杂ZnO 薄膜的表面形貌(SEM) | 第76-77页 |
·薄膜成分分析 | 第77-78页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第78-80页 |
·欧姆接触 | 第80-81页 |
·霍尔效应 | 第81-82页 |
·紫外-可见光透光光谱(UV-Vis) | 第82-85页 |
·本章小结 | 第85-86页 |
第5章 ZnO 基p-n 结性质的研究 | 第86-96页 |
·引言 | 第86页 |
·ZnO 同质结 | 第86-92页 |
·玻璃衬底 | 第86-89页 |
·p-n 结的透光性 | 第89-90页 |
·SiO_2/Si 衬底 | 第90-92页 |
·ZnO 异质结 | 第92-95页 |
·本章小结 | 第95-96页 |
第6章 ZnO: (Mg, As)薄膜性能的研究 | 第96-105页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第96-99页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第99-100页 |
·X-射线能量散射谱(EDS) | 第100页 |
·霍尔效应 | 第100-102页 |
·紫外-可见光透光光谱(UV-Vis) | 第102-103页 |
·本章小结 | 第103-105页 |
结论 | 第105-107页 |
参考文献 | 第107-119页 |
致谢 | 第119-120页 |
附录 A 攻读博士学位期间所发表与待发表的论文 | 第120页 |