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P型ZnO薄膜及其p-n结的制备与性能的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第1章 文献综述第12-38页
   ·前言第12页
   ·ZnO 的结构第12-14页
   ·ZnO 的固有缺陷和荧光性质第14-16页
   ·ZnO 掺杂的研究进展第16-30页
     ·H 元素的掺杂第16-17页
     ·施主掺杂第17-18页
     ·受主掺杂第18-30页
   ·ZnO 的应用第30-32页
     ·光电器件第30-31页
     ·透明导电薄膜第31-32页
   ·ZnO 作为光电材料研究中存在的主要问题第32-33页
   ·ZnO 薄膜的制备方法第33-35页
     ·磁控溅射第33-34页
     ·脉冲激光沉积第34页
     ·分子束外延第34页
     ·金属有机化学气相沉积第34-35页
     ·喷涂热分解第35页
   ·薄膜的形成过程第35-36页
   ·本文的选题依据及主要研究内容第36-37页
   ·主要创新点第37-38页
第2章 样品的制备及表征第38-50页
   ·薄膜样品的制备第38-43页
     ·磁控溅射系统第38-39页
     ·溅射原理第39-42页
     ·靶材的制备第42页
     ·衬底的选择与处理第42-43页
     ·样品的制备过程第43页
   ·表征方法介绍第43-50页
     ·结构和成分分析第43-45页
     ·表面形貌观察第45-46页
     ·电学测量第46-48页
     ·光学测量第48-50页
第3章 纯ZnO 薄膜结构性能的研究第50-59页
   ·ZnO 薄膜与粉末的结构和性能第50-51页
     ·X-射线衍射(XRD)第50-51页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第51页
     ·紫外可见光吸收光谱(UV-Vis)第51页
   ·生长和热处理条件对ZnO 薄膜与粉末的结构和性能的影响第51-58页
     ·X-射线衍射(XRD)第52-53页
     ·原子力显微镜(AFM)第53-55页
     ·光学性能第55-58页
   ·本章小结第58-59页
第4章 As 掺杂ZnO 薄膜的结构性能研究第59-86页
   ·溅射Zn_3AS_2/ZnO 靶制备的ZnO 薄膜结构性能研究第59-74页
     ·X-射线衍射(XRD)第59-64页
     ·As 掺杂ZnO 薄膜表面形貌(AFM、SEM)第64-66页
     ·X-射线能量散射谱(EDS)第66-68页
     ·X-射线光电子能谱(XPS)第68-70页
     ·霍尔效应第70-73页
     ·紫外-可见光透光光谱(UV-Vis)第73-74页
   ·共溅射Zn_3AS_2 和ZnO 靶制备ZnO 薄膜结构性能研究第74-85页
     ·X-射线衍射(XRD)第74-76页
     ·As 掺杂ZnO 薄膜的表面形貌(SEM)第76-77页
     ·薄膜成分分析第77-78页
     ·X-射线光电子能谱(XPS)第78-80页
     ·欧姆接触第80-81页
     ·霍尔效应第81-82页
     ·紫外-可见光透光光谱(UV-Vis)第82-85页
   ·本章小结第85-86页
第5章 ZnO 基p-n 结性质的研究第86-96页
   ·引言第86页
   ·ZnO 同质结第86-92页
     ·玻璃衬底第86-89页
     ·p-n 结的透光性第89-90页
     ·SiO_2/Si 衬底第90-92页
   ·ZnO 异质结第92-95页
   ·本章小结第95-96页
第6章 ZnO: (Mg, As)薄膜性能的研究第96-105页
   ·X-射线衍射(XRD)第96-99页
   ·原子力显微镜(AFM)第99-100页
   ·X-射线能量散射谱(EDS)第100页
   ·霍尔效应第100-102页
   ·紫外-可见光透光光谱(UV-Vis)第102-103页
   ·本章小结第103-105页
结论第105-107页
参考文献第107-119页
致谢第119-120页
附录 A 攻读博士学位期间所发表与待发表的论文第120页

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