| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的性质及应用前景 | 第7-9页 |
| ·掺硼金刚石膜的研究进展 | 第7-8页 |
| ·掺硼金刚石膜在微电子领域的应用 | 第8-9页 |
| ·金刚石电极在电化学领域的应用 | 第9-12页 |
| ·选择性生长金刚石薄膜 | 第12-13页 |
| ·金刚石电极在高压物理学上的应用 | 第13-14页 |
| ·论文选题的目的 | 第14-17页 |
| 第二章 测量微电路直接在DAC上的集成 | 第17-28页 |
| ·范德堡测量方法工作原理 | 第17-18页 |
| ·测量微电路直接在金刚石块状压砧上的集成 | 第18-25页 |
| ·测量微电路直接在DAC 上的集成 | 第25-28页 |
| 第三章 金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料的制备与表征及其制备在DAC上进行高温高压下原位电导率测量的应用前景预测 | 第28-44页 |
| ·金刚石/氧化铝陶瓷复合材料的制备 | 第28-30页 |
| ·灯丝的选择 | 第28-29页 |
| ·基底的制备 | 第29-30页 |
| ·金刚石薄膜的沉积 | 第30页 |
| ·金刚石薄膜的表征 | 第30-39页 |
| ·基底温度对纳米引晶法合成金刚石薄膜的影响 | 第30-34页 |
| ·碳源浓度对金刚石薄膜质量的影响 | 第34-36页 |
| ·灯丝与基底间的距离对金刚石薄膜沉积的影响 | 第36-38页 |
| ·利用纳米引晶法制备金刚石/氧化铝陶瓷复合材料的条 | 第38-39页 |
| ·金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料的选择性制备 | 第39-42页 |
| ·基底的处理 | 第39页 |
| ·金刚石膜的沉积 | 第39-40页 |
| ·材料的表征 | 第40-42页 |
| ·金刚石/氧化铝陶瓷复合材料嫁接在DAC上进行高温高压下原位电阻率测量的应用前景 | 第42-44页 |
| 第四章 应用高压电学测量金刚石膜微电路对水初步进行的电导率测量 | 第44-52页 |
| ·水的研究价值及研究手段 | 第44页 |
| ·水的相图 | 第44-45页 |
| ·水的电导率的初步测量 | 第45-52页 |
| ·电极测试系统介绍 | 第45页 |
| ·电极测试 | 第45-47页 |
| ·样品的组装 | 第47-52页 |
| 第五章 总结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-61页 |
| 摘要 | 第61-63页 |
| Abstract | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
