| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·能源危机与光伏发电 | 第11-12页 |
| ·体太阳电池的研究进展 | 第12-14页 |
| ·单晶硅太阳电池 | 第12-13页 |
| ·多晶硅太阳电池 | 第13-14页 |
| ·砷化镓(GaAs)太阳电池 | 第14页 |
| ·薄膜太阳电池的研究进展 | 第14-20页 |
| ·非晶硅(α-Si)太阳电池 | 第15-16页 |
| ·多晶硅薄膜太阳电池 | 第16-17页 |
| ·铜铟硒薄膜太阳电池 | 第17页 |
| ·碲化镉薄膜太阳电池 | 第17-18页 |
| ·染料敏化太阳电池(DSC) | 第18-20页 |
| ·光伏发电的发展现状 | 第20-22页 |
| ·国外的发展现状 | 第20页 |
| ·国内的发展现状 | 第20-22页 |
| ·本文的研究工作 | 第22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 真空蒸发法制备的AlSb多晶薄膜及其性质表征 | 第26-39页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·真空蒸发法制备AlSb多晶薄膜 | 第26-29页 |
| ·真空蒸发原理 | 第26-27页 |
| ·真空共蒸发制备AlSb薄膜 | 第27-28页 |
| ·热处理工艺 | 第28-29页 |
| ·AlSb多晶薄膜的性质 | 第29-36页 |
| ·结构表征 | 第29-31页 |
| ·表面形貌 | 第31-32页 |
| ·电学性质 | 第32-35页 |
| ·导电类型的判断 | 第32-33页 |
| ·电导率温度关系 | 第33-35页 |
| ·光学性质 | 第35-36页 |
| ·基本理论 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 磁控溅射法制备的AlSb多晶薄膜 | 第39-51页 |
| ·AlSb材料的基本性质 | 第39页 |
| ·AlSb多晶薄膜的制备工艺 | 第39-41页 |
| ·真空蒸发法 | 第39-40页 |
| ·热壁外延法(HWE) | 第40页 |
| ·磁控溅射法 | 第40页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第40-41页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第41页 |
| ·磁控溅射制备的AlSb多晶薄膜 | 第41-46页 |
| ·磁控溅射原理概述 | 第41-42页 |
| ·磁控溅射系统简介 | 第42-43页 |
| ·合金靶材的制备 | 第43-46页 |
| ·薄膜的制备及热处理 | 第46页 |
| ·磁控溅射制备的AlSb多晶薄膜的性质 | 第46-48页 |
| ·结构表征 | 第46-47页 |
| ·表面形貌 | 第47页 |
| ·电学性质 | 第47-48页 |
| ·光学性质 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 SnO_2多晶薄膜的制备及性质表征 | 第51-71页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·SnO_2本征层在CdTe太阳电池上的应用 | 第51-53页 |
| ·SnO_2薄膜的制备方法 | 第53-55页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第53-54页 |
| ·喷雾热分解法 | 第54页 |
| ·溅射镀膜法 | 第54-55页 |
| ·化学气相沉积法 | 第55页 |
| ·磁控反应溅射制备本征SnO_2多晶薄膜 | 第55-56页 |
| ·SnO_2多晶薄膜的制备 | 第56页 |
| ·SnO_2多晶薄膜的热处理 | 第56页 |
| ·SnO_2多晶薄膜的性质表征 | 第56-64页 |
| ·Ar/O_2比例与膜厚的关系 | 第56-57页 |
| ·XRD测试 | 第57-58页 |
| ·表面形貌 | 第58-59页 |
| ·光学性质 | 第59-61页 |
| ·电学性质 | 第61-64页 |
| ·电导率温度关系 | 第61-63页 |
| ·霍尔测试 | 第63-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 第五章 总结 | 第71-73页 |
| 发表的论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |