一维硅基材料的制备与生长机理研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·一维硅基材料的研究意义 | 第7页 |
| ·一维硅基材料的研究进展 | 第7-14页 |
| ·一维硅基材料的制备方法 | 第7-8页 |
| ·一维硅基材料的生长机理 | 第8-14页 |
| ·“固－气”（VS）成线机制 | 第9页 |
| ·“固－液－固”（SLS）成线机制 | 第9-10页 |
| ·“气－液－固”（VLS）成线机制 | 第10-11页 |
| ·“气－团簇－固”（VCS）成线机制 | 第11-13页 |
| ·“氧协助团簇－固”成线机制 | 第13-14页 |
| ·一维硅基材料的应用前景 | 第14页 |
| ·一维硅基材料目前存在的问题 | 第14-15页 |
| ·多重反应法生长碳化硅纳米线 | 第14-15页 |
| ·非晶二氧化硅微米线的“O”形结 | 第15页 |
| ·非晶二氧化硅纳米线模板法生长碳纳米管 | 第15页 |
| ·本试验的试验方法及创新之处 | 第15-17页 |
| ·多重反应法生长碳化硅纳米线 | 第15-16页 |
| ·非晶二氧化硅微米线的“O”形结 | 第16页 |
| ·非晶二氧化硅纳米线模板法生长碳纳米管 | 第16-17页 |
| 第二章 试验原料和试验装置 | 第17-19页 |
| ·试验原料 | 第17-18页 |
| ·试验装置 | 第18-19页 |
| ·真空管式高温炉 | 第18页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第18页 |
| ·能谱仪（EDS） | 第18页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第18页 |
| ·X射线衍射仪（XRD） | 第18-19页 |
| 第三章 多重反应法生长碳化硅纳米线 | 第19-30页 |
| ·多重反应法生长碳化硅纳米线的制备 | 第19-20页 |
| ·试验结果与讨论 | 第20-30页 |
| ·结果 | 第20-27页 |
| ·讨论 | 第27-30页 |
| ·硅原子的提供 | 第27-28页 |
| ·碳原子的提供 | 第28页 |
| ·硅原子和碳原子反应 | 第28-29页 |
| ·β－SiC纳米线的成线机理 | 第29-30页 |
| 第四章 非晶氧化硅微米线的“O”形结 | 第30-40页 |
| ·非晶氧化硅微米线“O”形结的制备 | 第30-31页 |
| ·试验结果与讨论 | 第31-40页 |
| ·结果 | 第31-34页 |
| ·讨论 | 第34-40页 |
| ·非晶氧化硅微米线的成线机理 | 第34-36页 |
| ·带线头的非晶氧化硅微米线“O”形结的形成机理 | 第36-38页 |
| ·不带线头的非晶氧化硅微米线“O”形结的形成机理 | 第38-40页 |
| 第五章 非晶SiO_2纳米线模板法生长碳纳米管 | 第40-52页 |
| ·非晶SiO_2纳米线模板法生长的碳纳米管的制备 | 第40-41页 |
| ·试验结果与讨论 | 第41-52页 |
| ·结果 | 第41-49页 |
| ·讨论 | 第49-52页 |
| ·硅原子的提供 | 第49-50页 |
| ·氧原子的提供 | 第50页 |
| ·碳原子的提供 | 第50-51页 |
| ·硅，氧和碳反应生成碳包覆二氧化硅纳米线 | 第51-52页 |
| 第六章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
