摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 引言 | 第10-16页 |
·研究背景 | 第10页 |
·OLED 产业化的问题 | 第10页 |
·OLED 器件失效机理 | 第10-11页 |
·国内主要外测量的方法 | 第11-14页 |
·本论文的研究内容及创新 | 第14-16页 |
第二章 质谱法测量柔性OLED 衬底材料气体渗透率的相关理论 | 第16-32页 |
·气体分子与固体表面间的作用力 | 第16-18页 |
·物理吸附物理吸附 | 第16-17页 |
·化学吸附 | 第17-18页 |
·气体在固体中的渗透相关理论 | 第18-22页 |
·气体在固体中的溶解 | 第18-20页 |
·Fick 定律—溶解的气体在固体中扩散 | 第20-22页 |
·真空技术相关的物理基础 | 第22-23页 |
·真空系统的抽速和流导 | 第23-26页 |
·气体沿管道的流道 | 第23-24页 |
·管道的流导 | 第24-26页 |
·真空系统的抽速确定 | 第26-27页 |
·四极质谱仪的原理和特性 | 第27-31页 |
·质谱仪中电离计的相对灵敏度 | 第31-32页 |
第三章 质谱计数据采集系统的设计 | 第32-43页 |
·系统设计目的和要求 | 第32-36页 |
·采集系统硬件工作原理 | 第33-35页 |
·质谱仪数据采集系统控制部分软件的设计 | 第35-36页 |
·四极质谱计数据采集系统软件设计 | 第36-40页 |
·质谱图的修正原理 | 第36-39页 |
·质谱峰值的计算 | 第39页 |
·数据校正与测试 | 第39-40页 |
·软件界面及功能介绍 | 第40-41页 |
·软件界面 | 第40页 |
·功能按钮 | 第40-41页 |
·软件模块分析 | 第41-43页 |
·软件集成开发环境介绍 | 第41页 |
·软件的模块介绍 | 第41-43页 |
第四章 质谱法动态抽除式进样测量气体渗透率的研究 | 第43-65页 |
·质谱法测量材料渗透率系统介绍 | 第43-50页 |
·动态抽除式测量系统原理 | 第43-45页 |
·动态抽出式质谱法测量系统介绍 | 第45-47页 |
·待测样品材料与真空室的连接 | 第47-48页 |
·实验中气体室中渗透气体要求 | 第48-49页 |
·超高真空系统的启动 | 第49页 |
·真空系统的检漏及仪器设备的烘烤除气 | 第49-50页 |
·质谱计的测量灵敏度 | 第50-53页 |
·质谱计离子流量程的灵敏度比值 | 第50-52页 |
·质谱计对不同气体的测量灵敏度 | 第52-53页 |
·实验中的常用参数介绍 | 第53页 |
·温度对材料气体渗透的影响 | 第53-55页 |
·氧气、水蒸气对PEN 薄膜气体渗透率的测量 | 第55-59页 |
·氧气对PEN 薄膜渗透率的测量 | 第56-57页 |
·水蒸气对PEN 薄膜渗透率的测量 | 第57-58页 |
·实验数据分析 | 第58-59页 |
·温度对PEN 材料气体渗透率的影响 | 第59-60页 |
·类金刚石薄膜水蒸气渗透率测量 | 第60-62页 |
·氧气、水蒸气对云母薄膜气体渗透率的测量 | 第62-65页 |
第五章 质谱法静态积累式进样材料气体渗透率测量的研究 | 第65-77页 |
·质谱法静态积累式进样测量系统的结构及原理 | 第65-67页 |
·质谱法静态积累式进样测量系统原理 | 第65-67页 |
·质谱法静态积累式进样材料气体渗透率测量 | 第67-70页 |
·系统中针阀刻度与流导的关系确定 | 第67-68页 |
·积累室中取样气体讨论 | 第68-69页 |
·实验测量方法及实验数据处理介绍 | 第69-70页 |
·水蒸气、氧气对云母薄膜气体渗透率的测量 | 第70-72页 |
·积累室本底压强测量 | 第70-71页 |
·水蒸气、氧气对云母薄膜渗透率测量 | 第71-72页 |
·云母薄膜气体渗透率测量分析 | 第72-74页 |
·高真空下环境下OLED 寿命测试 | 第74-75页 |
·质谱法静态积累式进样测量系统的特点及改进方法 | 第75-77页 |
·静态积累式进样测量系统的特点 | 第75-76页 |
·静态积累式进样测量系统的改进方法 | 第76-77页 |
第六章 总结与展望 | 第77-79页 |
·研究成果及创新工作总结 | 第77-78页 |
·存在问题 | 第78页 |
·工作展望 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第83-84页 |