氧化钛薄膜的制备工艺及其光电性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·氧化钛薄膜的研究背景和意义 | 第9-10页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·课题目标和意义 | 第10页 |
| ·氧化钛薄膜的研究发展状况 | 第10-11页 |
| ·国外研究发展状况 | 第10-11页 |
| ·国内研究发展状况 | 第11页 |
| ·本论文的主要工作与意义 | 第11-14页 |
| ·本论文的主要工作 | 第11-12页 |
| ·本论文的意义 | 第12-14页 |
| 第二章 氧化钛及磁控溅射镀膜理论基础 | 第14-29页 |
| ·氧化钛理论基础 | 第14-17页 |
| ·氧化钛的结构性能基础 | 第14-16页 |
| ·氧化钛薄膜的制备工艺概述 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射理论基础 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射概述 | 第17-18页 |
| ·直流反应溅射 | 第18-19页 |
| ·溅射镀膜工艺流程 | 第19-22页 |
| ·氧化钛薄膜制备方框图 | 第22-23页 |
| ·薄膜的测试表征方法 | 第23-29页 |
| ·电学性能测试表征 | 第23-25页 |
| ·光学性能测试表征 | 第25-29页 |
| 第三章 氧化钛薄膜的溅射制备工艺和光电性能研究 | 第29-46页 |
| ·基片温度对氧化钛薄膜光电性能的影响研究 | 第29-36页 |
| ·实验概述 | 第29页 |
| ·实验过程和参数设计 | 第29-30页 |
| ·不同基片温度下的实验结果与讨论 | 第30-36页 |
| ·实验结论 | 第36页 |
| ·氧流量对氧化钛薄膜光电性能的影响研究 | 第36-40页 |
| ·实验概述 | 第36页 |
| ·实验过程和参数设计 | 第36-37页 |
| ·不同氧流量下的实验结果与讨论 | 第37-40页 |
| ·实验结论 | 第40页 |
| ·氩流量对氧化钛薄膜光电性能的影响研究 | 第40-44页 |
| ·实验概述 | 第40-41页 |
| ·实验过程和参数设计 | 第41页 |
| ·不同氩流量下的实验结果与讨论 | 第41-44页 |
| ·实验结论 | 第44页 |
| ·溅射工艺总结 | 第44-46页 |
| 第四章 氧化钛薄膜的退火处理工艺和光电性能研究 | 第46-54页 |
| ·退火概述 | 第46页 |
| ·退火目的 | 第46页 |
| ·退火理论基础 | 第46-47页 |
| ·退火工艺研究 | 第47-51页 |
| ·退火环境影响研究 | 第48-49页 |
| ·退火氧流量影响研究 | 第49-50页 |
| ·退火时间影响研究 | 第50页 |
| ·退火温度影响研究 | 第50-51页 |
| ·退火与XPS 能谱分析 | 第51-52页 |
| ·退火工艺总结 | 第52-54页 |
| 第五章 氧化钛薄膜的优化工艺和光电性能表征 | 第54-60页 |
| ·优化工艺 | 第54页 |
| ·电学性能 | 第54-55页 |
| ·方阻和TCR | 第54-55页 |
| ·膜厚 | 第55页 |
| ·光学性能 | 第55-59页 |
| ·透过率 | 第55-56页 |
| ·反射率 | 第56页 |
| ·光学带隙 | 第56-57页 |
| ·SEM 形貌 | 第57-58页 |
| ·XPS 形貌 | 第58页 |
| ·XRD 图谱 | 第58-59页 |
| ·优化工艺总结 | 第59-60页 |
| 第六章 总结与展望 | 第60-63页 |
| ·本文的主要工作 | 第60-61页 |
| ·以后工作展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第67-68页 |
