| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-36页 |
| ·铁电随机存储器及其研究概况 | 第12-15页 |
| ·铁电随机存储器材料选取 | 第15-20页 |
| ·铁电薄膜制备及表征 | 第20-22页 |
| ·铁电薄膜第一性原理计算分析 | 第22-35页 |
| ·本论文的工作 | 第35-36页 |
| 2 PZT 第一性原理计算 | 第36-66页 |
| ·PTO 顺电相和铁电相第一性原理计算 | 第36-43页 |
| ·不同ZR/TI 比PZT 铁电相第一性原理计算 | 第43-54页 |
| ·PZO 顺电相、铁电相和反铁电相第一性原理计算 | 第54-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 3 缓冲层对PTZT 薄膜铁电性能的影响 | 第66-83页 |
| ·衬底和电极材料选取与制备 | 第66-68页 |
| ·靶材制备 | 第68-70页 |
| ·不同缓冲层结构的PTZT 铁电薄膜的制备 | 第70-71页 |
| ·TiO_2 和PBO 缓冲层对PTZT 铁电薄膜性能的影响 | 第71-75页 |
| ·LSMO 缓冲层对PTZT 铁电薄膜性能的影响 | 第75-79页 |
| ·LSMO 下缓冲层厚度对PTZT 铁电薄膜性能的影响 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 4 薄膜制备工艺优化 | 第83-103页 |
| ·铁电薄膜样品制备 | 第83-84页 |
| ·PTZT 铁电层溅射气压对LSMO | 第84-88页 |
| ·PTZT 铁电层基片温度对LSMO | 第88-92页 |
| ·PTZT 氧偏压对薄膜结晶性能的研究 | 第92-94页 |
| ·铁电薄膜退火工艺研究 | 第94-102页 |
| ·本章小结 | 第102-103页 |
| 5 大面积PTZT 铁电薄膜的制备和表征 | 第103-113页 |
| ·基片托设计 | 第103页 |
| ·大面积均匀致密的PZT 铁电薄膜制备 | 第103-105页 |
| ·大面积均匀致密的PTZT 铁电薄膜形貌 | 第105-106页 |
| ·大面积均匀致密的PTZT 铁电薄膜结晶性能 | 第106-107页 |
| ·大面积均匀致密的PZT 铁电薄膜电学性能 | 第107-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 6 铁电电容唯象物理模型研究 | 第113-122页 |
| ·铁电电容模型 | 第113-117页 |
| ·模型参数讨论 | 第117-119页 |
| ·模型检验 | 第119-121页 |
| ·本章小结 | 第121-122页 |
| 7 全文总结 | 第122-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-140页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表和待发表的论文目录 | 第140-141页 |