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MOEMS光开关阵列芯片的研究

第1章 绪论第1-25页
 1.1 全光通信中的光开关第10-17页
  1.1.1 全光通信网络第10-13页
  1.1.2 光开关在全光通信网络中的应用第13-15页
  1.1.3 光开关的市场分析第15页
  1.1.4 各种光开关技术的比较第15-17页
 1.2 MOEMS 光开关第17-23页
  1.2.1 MOEMS 技术第18-19页
  1.2.2 MOEMS 光开关的研究现状第19-22页
  1.2.3 MOEMS 光开关的主要驱动形式第22-23页
 1.3 本论文的研究意义、研究内容和研究方法第23-25页
第2章 MOEMS 光开关的结构设计第25-50页
 2.1 8×8 MOEMS 阵列光开关第25-26页
 2.2 微反射镜阵列芯片的光学设计第26-34页
  2.2.1 微反射镜反射面的尺寸设计第27-30页
  2.2.2 微反射镜表面的反射特性第30-31页
  2.2.3 微反射镜金反射膜偏振特性的研究第31-32页
  2.2.4 微反射镜表面的散射特性对插入损耗的影响第32-33页
  2.2.5 MOEMS 光开关光学设计总结第33-34页
 2.3 MOEMS 光开关的机电结构设计第34-48页
  2.3.1 MOEMS 光开关静电力矩的分析第35-37页
  2.3.2 MOEMS 光开关的驱动电压第37-38页
  2.3.3 光开关的驱动电压和结构参数之间的关系第38-44页
  2.3.4 光开关的固有频率分析第44页
  2.3.5 光开关的动态响应分析第44-47页
  2.3.6 光开关机电结构设计总结第47-48页
 2.4 MOEMS 光开关结构设计总结第48-50页
第3章 MOEMS 光开关的有限元分析第50-55页
 3.1 MOEMS 光开关结构的建模第50-51页
 3.2 MOEMS 光开关结构的应力分析第51-52页
 3.3 MOEMS 光开关各阶模态频率的分析第52-53页
 3.4 MOEMS 光开关有限元分析总结第53-55页
第4章 MOEMS 光开关芯片制作技术研究第55-70页
 4.1 (110)单晶硅的各向异性腐蚀机理第55-59页
 4.2 MOEMS 光开关阵列芯片工艺步骤的设计第59-62页
 4.3 MOEMS 光开关阵列掩蔽图形的制作第62-63页
 4.4 光开关微反射镜阵列的各向异性腐蚀实验第63-65页
  4.4.1 KOH 各向异性腐蚀实验设计第63-64页
  4.4.2 MOEMS 光开关微反射镜阵列的实验结果第64-65页
 4.5 微反射镜阵列各向异性腐蚀实验结果分析第65-69页
  4.5.1 各向异性腐蚀掩蔽层的应力问题和解决方法第66-68页
  4.5.2 微反射镜两端的凸角腐蚀以及凸角补偿问题第68-69页
 4.6 本章总结第69-70页
第5章 结论第70-71页
参考文献第71-75页
致谢第75-76页
作者简历第76页
攻读硕士期间发表的学术论文第76-77页

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