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稀土酞菁纳米有序复合光电功能材料的制备

摘要第1-3页
Abstract第3-8页
第一章 文献综述第8-27页
 1.1 碳纳米管的有机化学功能化研究进展第8-18页
  1.1.1 碳纳米管的有机共价功能化(接枝法)第9-13页
  1.1.2 碳纳米管的有机非共价修饰第13-16页
   1.1.2.1 碳纳米管的包覆第14-15页
   1.1.2.2 碳纳米管的填充第15-16页
  1.1.3 碳纳米管阵列的化学修饰第16-18页
 1.2 多孔氧化铝模板法在纳米材料制备与器件中的应用第18-26页
  1.2.1 一维纳米材料的氧化铝模板合成第19-21页
  1.2.2 氧化铝多孔膜模板法的具体应用第21-26页
 1.3 课题提出及意义第26-27页
第二章 稀土酞菁化学修饰碳纳米管第27-42页
 2.1 八-4-氨基稀土酞菁的合成第27-29页
  2.1.1 无水稀土氯化物的制备第27-28页
  2.1.2 八-4-硝基稀土酞菁的合成第28-29页
  2.1.3 八-4-氨基稀土酞菁(OAErPc_2)的合成第29页
 2.2 稀土酞菁化学修饰碳纳米管的制备第29-30页
  2.2.1 碳纳米管的纯化第29-30页
  2.2.2 八-4-氨基酞菁铒化学修饰碳纳米管第30页
 2.3 产物表征第30-35页
  2.3.1 八-4-氨基酞菁铒的表征第30-33页
  2.3.2 八-4-氨基酞菁铒化学修饰碳纳米管的化学结构表征第33-35页
 2.4 稀土酞菁化学修饰碳纳米管的形貌分析第35-37页
  2.4.1 稀土酞菁化学修饰SWNTs的高分辨透射电镜表征第35-36页
  2.4.2 稀土酞菁化学修饰MWNTs的透射电镜表征第36-37页
 2.5 八-4-氨基酞菁铒与碳纳米管间的电子相互作用第37-39页
  2.5.1 紫外可见吸收光谱(UV-Vis)分析第37-38页
  2.5.2 拉曼光谱(Raman)分析第38-39页
 2.6 稀土酞菁化学修饰碳纳米管纳米复合材料的性能表征第39-42页
  2.6.1 光导性能第40页
  2.6.2 气敏性第40-42页
第三章 氧化铝模板法电泳沉积制备酞菁纳米线阵列第42-56页
 3.1 氧化铝多孔膜模板(AAO)的制备第42-47页
  3.1.1 高纯铝片的前期处理第42-43页
  3.1.2 铝片的氧化第43-46页
  3.1.3 AAO膜的通孔第46-47页
 3.2 酞菁纳米线阵列的制备第47-49页
  3.2.1 金属酞菁的合成及纯化第47-48页
  3.2.2 电泳沉积制备酞菁纳米线阵列第48-49页
   3.2.2.1 酞菁铜纳米线阵列的制备第48页
   3.2.2.2 酞菁铒纳米线的制备第48-49页
 3.3 酞菁纳米线阵列的形貌表征和组成分析第49-54页
  3.3.1 透射电镜(TEM)第49页
  3.3.2 场发射扫描电镜第49-52页
  3.3.3 X射线弥散能谱(EDAX)第52页
  3.3.4 X射线衍射第52-53页
  3.3.5 酞菁铒纳米线的TEM表征第53-54页
 3.4 酞菁铜纳米线阵列双层光导体的制备及其光导性能第54-56页
  3.4.1 酞菁铜纳米线阵列双层光导体的制备第54-55页
  3.4.2 光导体光导性能表征第55-56页
第四章 稀土酞菁/苝电泳共沉积制备半导体薄膜初探第56-61页
 4.1 吡啶-苝酰亚胺的合成第56-58页
  4.1.1 实验试剂第56页
  4.1.2 吡啶-苝酰亚胺(PDPP)的合成第56-57页
  4.1.3 吡啶-苝酰亚胺产物结构表征第57-58页
 4.2 稀土酞菁/吡啶-苝酰亚胺电泳共沉积半导体薄膜的制备第58-61页
  4.2.1 电极的清洗第58页
  4.2.2 电沉积溶液的配制第58页
  4.2.3 电泳沉积过程第58页
  4.2.4 稀土酞菁/吡啶-苝酰亚胺电泳共沉积半导体薄膜的初步表征第58-60页
  4.2.5 质子化机理分析第60-61页
总结第61-62页
参考文献第62-71页
附录1 测试仪器及制样方法第71-73页
附录2 发表论文第73-74页
致谢第74页

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