摘要 | 第1-3页 |
Abstract | 第3-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-27页 |
1.1 碳纳米管的有机化学功能化研究进展 | 第8-18页 |
1.1.1 碳纳米管的有机共价功能化(接枝法) | 第9-13页 |
1.1.2 碳纳米管的有机非共价修饰 | 第13-16页 |
1.1.2.1 碳纳米管的包覆 | 第14-15页 |
1.1.2.2 碳纳米管的填充 | 第15-16页 |
1.1.3 碳纳米管阵列的化学修饰 | 第16-18页 |
1.2 多孔氧化铝模板法在纳米材料制备与器件中的应用 | 第18-26页 |
1.2.1 一维纳米材料的氧化铝模板合成 | 第19-21页 |
1.2.2 氧化铝多孔膜模板法的具体应用 | 第21-26页 |
1.3 课题提出及意义 | 第26-27页 |
第二章 稀土酞菁化学修饰碳纳米管 | 第27-42页 |
2.1 八-4-氨基稀土酞菁的合成 | 第27-29页 |
2.1.1 无水稀土氯化物的制备 | 第27-28页 |
2.1.2 八-4-硝基稀土酞菁的合成 | 第28-29页 |
2.1.3 八-4-氨基稀土酞菁(OAErPc_2)的合成 | 第29页 |
2.2 稀土酞菁化学修饰碳纳米管的制备 | 第29-30页 |
2.2.1 碳纳米管的纯化 | 第29-30页 |
2.2.2 八-4-氨基酞菁铒化学修饰碳纳米管 | 第30页 |
2.3 产物表征 | 第30-35页 |
2.3.1 八-4-氨基酞菁铒的表征 | 第30-33页 |
2.3.2 八-4-氨基酞菁铒化学修饰碳纳米管的化学结构表征 | 第33-35页 |
2.4 稀土酞菁化学修饰碳纳米管的形貌分析 | 第35-37页 |
2.4.1 稀土酞菁化学修饰SWNTs的高分辨透射电镜表征 | 第35-36页 |
2.4.2 稀土酞菁化学修饰MWNTs的透射电镜表征 | 第36-37页 |
2.5 八-4-氨基酞菁铒与碳纳米管间的电子相互作用 | 第37-39页 |
2.5.1 紫外可见吸收光谱(UV-Vis)分析 | 第37-38页 |
2.5.2 拉曼光谱(Raman)分析 | 第38-39页 |
2.6 稀土酞菁化学修饰碳纳米管纳米复合材料的性能表征 | 第39-42页 |
2.6.1 光导性能 | 第40页 |
2.6.2 气敏性 | 第40-42页 |
第三章 氧化铝模板法电泳沉积制备酞菁纳米线阵列 | 第42-56页 |
3.1 氧化铝多孔膜模板(AAO)的制备 | 第42-47页 |
3.1.1 高纯铝片的前期处理 | 第42-43页 |
3.1.2 铝片的氧化 | 第43-46页 |
3.1.3 AAO膜的通孔 | 第46-47页 |
3.2 酞菁纳米线阵列的制备 | 第47-49页 |
3.2.1 金属酞菁的合成及纯化 | 第47-48页 |
3.2.2 电泳沉积制备酞菁纳米线阵列 | 第48-49页 |
3.2.2.1 酞菁铜纳米线阵列的制备 | 第48页 |
3.2.2.2 酞菁铒纳米线的制备 | 第48-49页 |
3.3 酞菁纳米线阵列的形貌表征和组成分析 | 第49-54页 |
3.3.1 透射电镜(TEM) | 第49页 |
3.3.2 场发射扫描电镜 | 第49-52页 |
3.3.3 X射线弥散能谱(EDAX) | 第52页 |
3.3.4 X射线衍射 | 第52-53页 |
3.3.5 酞菁铒纳米线的TEM表征 | 第53-54页 |
3.4 酞菁铜纳米线阵列双层光导体的制备及其光导性能 | 第54-56页 |
3.4.1 酞菁铜纳米线阵列双层光导体的制备 | 第54-55页 |
3.4.2 光导体光导性能表征 | 第55-56页 |
第四章 稀土酞菁/苝电泳共沉积制备半导体薄膜初探 | 第56-61页 |
4.1 吡啶-苝酰亚胺的合成 | 第56-58页 |
4.1.1 实验试剂 | 第56页 |
4.1.2 吡啶-苝酰亚胺(PDPP)的合成 | 第56-57页 |
4.1.3 吡啶-苝酰亚胺产物结构表征 | 第57-58页 |
4.2 稀土酞菁/吡啶-苝酰亚胺电泳共沉积半导体薄膜的制备 | 第58-61页 |
4.2.1 电极的清洗 | 第58页 |
4.2.2 电沉积溶液的配制 | 第58页 |
4.2.3 电泳沉积过程 | 第58页 |
4.2.4 稀土酞菁/吡啶-苝酰亚胺电泳共沉积半导体薄膜的初步表征 | 第58-60页 |
4.2.5 质子化机理分析 | 第60-61页 |
总结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-71页 |
附录1 测试仪器及制样方法 | 第71-73页 |
附录2 发表论文 | 第73-74页 |
致谢 | 第74页 |