| 目录 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-39页 |
| 1． 1 研究背景 | 第12-14页 |
| 1． 2 介质阻挡放电化学气相沉积技术 | 第14-20页 |
| 1． 2． 1 DBD | 第14-18页 |
| 1． 2． 1． 1 DBD的性能 | 第15-16页 |
| 1． 2． 1． 1 DBD的应用 | 第16-18页 |
| 1． 2． 2 DBD-CVD | 第18-20页 |
| 1． 2． 2． 1 CVD中等离子的作用 | 第18-19页 |
| 1． 2． 2． 2 DBD-CVD的应用 | 第19-20页 |
| 1． 3 类金刚石薄膜 | 第20-31页 |
| 1． 3． 1 引言 | 第20-22页 |
| 1． 3． 2 DLC的性能与应用 | 第22-28页 |
| 1． 3． 2． 1 机械性能及应用 | 第22-23页 |
| 1． 3． 2． 2 电学性能及应用 | 第23-24页 |
| 1． 3． 2． 3 光学特性能及应用 | 第24-25页 |
| 1． 3． 2． 4 场发射性能及其应用 | 第25-26页 |
| 1． 3． 2． 5 生物相容性及其应用 | 第26-27页 |
| 1． 3． 2． 6 其它性能及应用 | 第27-28页 |
| 1． 3． 3 DLC薄膜的制备方法 | 第28-31页 |
| 1． 3． 3． 1 离子束沉积(Ion Beam) | 第28页 |
| 1． 3． 3． 2 溅射法 | 第28-29页 |
| 1． 3． 3． 3 阴极电弧法 | 第29-30页 |
| 1． 3． 3． 4 等离子增强化学气相沉积(PECVD) | 第30页 |
| 1． 3． 3． 5 脉冲激光沉积(PLD) | 第30-31页 |
| 1． 4 氮化硼薄膜(BN) | 第31-37页 |
| 1． 4． 1 引言 | 第31-32页 |
| 1． 4． 2 氮化硼的结构、性质与应用 | 第32-35页 |
| 1． 4． 2． 1 六角氮化硼(h-BN)的结构、性质与应用 | 第32-33页 |
| 1． 4． 2． 2 纤锌矿氮化硼(w-BN)的结构、性质与应用 | 第33-34页 |
| 1． 4． 2． 3 菱形氮化硼(r-BN)的结构、性质与应用 | 第34页 |
| 1． 4． 2． 4 立方氮化硼的结构、性能与应用 | 第34-35页 |
| 1． 4． 3 BN薄膜的制备方法 | 第35-37页 |
| 1． 4． 3． 1 溅射法 | 第35-36页 |
| 1． 4． 3． 2 等离子体增强化学气相沉积法(PECVD) | 第36页 |
| 1． 4． 3． 3 离子镀 | 第36-37页 |
| 1． 4． 3． 4 脉冲激光沉积(PLD) | 第37页 |
| 1． 5 本课题的研究思路 | 第37-38页 |
| 1． 6 本课题的研究内容 | 第38-39页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第39-48页 |
| 2． 1 DBD-CVD系统构建 | 第39-41页 |
| 2． 1． 1 DBD-CVD系统的设计与构成 | 第39-40页 |
| 2． 1． 2 电源 | 第40页 |
| 2． 1． 3 真空系统 | 第40-41页 |
| 2． 1． 4 介质阻挡放电系统 | 第41页 |
| 2． 1． 5气体流量控制与显示系统 | 第41页 |
| 2． 1． 6 DBD-CVD技术的创新 | 第41页 |
| 2． 2 HF-PECVD系统简介 | 第41-42页 |
| 2． 3 DLC与BN薄膜的分析测试方法 | 第42-48页 |
| 2． 3． 1 激光Raman谱 | 第42-43页 |
| 2． 3． 2 X射线衍射分析(XRD) | 第43页 |
| 2． 3． 3 傅立叶变换红外光谱分析(FTIR) | 第43-44页 |
| 2． 3． 4 紫外可见光谱(UV spectrum) | 第44页 |
| 2． 3． 5 X射线光电子能谱(XPS) | 第44-45页 |
| 2． 3． 6 透射电子显微镜(TEM) | 第45页 |
| 2． 3． 7 场发射扫描电镜(FE-SEM) | 第45-46页 |
| 2． 3． 8 原子力显微镜测试(AFM) | 第46页 |
| 2． 3． 9 膜厚测量 | 第46页 |
| 2． 3． 10 光电性能测试 | 第46-47页 |
| 2． 3． 11 附着力测试 | 第47页 |
| 2． 3． 12 硬度测试 | 第47-48页 |
| 第三章 DLC薄膜制备及工艺参数对薄膜结构性能的影响 | 第48-80页 |
| 3． 1 实验装置及过程介绍 | 第48-49页 |
| 3． 2沉积电压对薄膜结构性能的影响 | 第49-63页 |
| 3． 2． 1 Raman光谱分析 | 第49-51页 |
| 3． 2． 2 沉积速度分析 | 第51-52页 |
| 3． 2． 3 薄膜的表面形貌及截面形貌分析 | 第52-55页 |
| 3． 2． 4 XPS分析 | 第55-58页 |
| 3． 2． 5 硬度与电阻率分析 | 第58-59页 |
| 3． 2． 6 薄膜的光学性质分析 | 第59-61页 |
| 3． 2． 7 薄膜的膜基结合性能分析 | 第61-62页 |
| 3． 2． 8 薄膜的耐腐蚀性能 | 第62-63页 |
| 3． 3 沉积频率、压强对薄膜结构性能的影响 | 第63-66页 |
| 3． 3． 1 SEM形貌分析 | 第63-64页 |
| 3． 3． 2 Raman分析 | 第64-65页 |
| 3． 3． 3 硬度分析 | 第65-66页 |
| 3． 4 不同衬底上的DLC薄膜的制备 | 第66-73页 |
| 3． 4． 1 Raman分析 | 第66-68页 |
| 3． 4． 2 SEM形貌分析 | 第68页 |
| 3． 4． 3 沉积速度分析 | 第68-71页 |
| 3． 4． 4 硬度分析 | 第71-72页 |
| 3． 4． 5 膜基结合力分析 | 第72-73页 |
| 3． 5 N掺杂DLC薄膜的制备 | 第73-78页 |
| 3． 5． 1 N掺杂DLC薄膜的制备 | 第74页 |
| 3． 5． 2 FE-SEM及EDX分析 | 第74-77页 |
| 3． 5． 3 硬度及膜基结合力分析 | 第77-78页 |
| 3． 6 DBD-CVD工艺的理论解释 | 第78-79页 |
| 3． 7 小结 | 第79-80页 |
| 第四章 BP_xN_(1-x)薄膜的制备及性能研究 | 第80-94页 |
| 4． 1 BP_xN_(1-x)薄膜的制备 | 第81-87页 |
| 4． 1． 1 薄膜沉积条件 | 第81页 |
| 4． 1． 2 衬底温度对薄膜结构的影响 | 第81-83页 |
| 4． 1． 3 XPS分析 | 第83-85页 |
| 4． 1． 4 不同衬底温度下BP_xN_(1-x)薄膜的SEM形貌 | 第85-87页 |
| 4． 1． 5 PH_3流量与BP_xN_(1-x)薄膜内P元素含量的关系 | 第87页 |
| 4． 2 掺P量对BP_xN_(1-x)薄膜光电性能的影响 | 第87-91页 |
| 4． 2． 1 P对BP_xN_(1-x)薄膜光学带隙的调节规律 | 第88-91页 |
| 4． 2． 2 BP_xN_(1-x)薄膜的光/暗电导性能 | 第91页 |
| 4． 3 BP_xN_(1-x)薄膜在紫外液晶光阀中的应用前景分析 | 第91-93页 |
| 4． 4 小结 | 第93-94页 |
| 第五章 结论 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-108页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109页 |
