磁流变抛光的关键技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·课题来源及意义 | 第7-8页 |
| ·课题的来源 | 第7页 |
| ·课题研究的背景和意义 | 第7-8页 |
| ·光学抛光技术的研究现状 | 第8-10页 |
| ·磁流变液的研究与应用现状 | 第10-12页 |
| ·磁流变液的研究现状 | 第10-11页 |
| ·磁流变液的应用 | 第11-12页 |
| ·磁流变抛光技术的发展及现状 | 第12-15页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 磁流变抛光液的配置 | 第16-23页 |
| ·磁流变液的组成 | 第16-17页 |
| ·磁流变抛光液的配置研究 | 第17-22页 |
| ·磁流变液的配置原理分析 | 第17-18页 |
| ·磁流变抛光液的性能要求 | 第18-19页 |
| ·磁流变抛光液的配置 | 第19-21页 |
| ·磁流变抛光的实例 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 磁流变抛光液的性能测试研究 | 第23-33页 |
| ·磁流变抛光液的稳定性 | 第23-24页 |
| ·磁流变抛光液的沉降稳定性 | 第23-24页 |
| ·磁流变抛光液的凝聚稳定性 | 第24页 |
| ·磁流变抛光液的流变性 | 第24-32页 |
| ·新型磁流变仪的研制 | 第25-28页 |
| ·新型磁流变仪的测试原理 | 第28-29页 |
| ·磁流变抛光液流变性能测试结果 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 磁流变抛光材料去除数学模型的建立 | 第33-42页 |
| ·轴承润滑理论与成核状态分析 | 第33-36页 |
| ·磁流变抛光的材料去除数学模型 | 第36-41页 |
| ·模型的假设 | 第36-37页 |
| ·模型的建立 | 第37-39页 |
| ·模型的求解和验证 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 磁流变抛光工艺参数的试验研究 | 第42-55页 |
| ·磁流变抛光去除效率的试验研究 | 第42-48页 |
| ·试验和检测方法 | 第42-43页 |
| ·试验方案的设计 | 第43-45页 |
| ·试验结果的处理 | 第45页 |
| ·试验结果的分析 | 第45-48页 |
| ·磁流变抛光表面粗糙度的试验研究 | 第48-53页 |
| ·试验方案的设计 | 第48-50页 |
| ·试验结果的处理和分析 | 第50-53页 |
| ·磁流变抛光工艺参数的优化 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第55-57页 |
| ·全文总结 | 第55-56页 |
| ·研究展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 附录 zygo干涉仪表面粗糙度测量结果图 | 第61-65页 |
