硅纳米晶体的表面改性及其在太阳电池中的应用
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-13页 |
| 第二章 文献综述 | 第13-31页 |
| ·硅纳米晶体的性质 | 第13-15页 |
| ·硅纳米晶体的光学性质 | 第13-15页 |
| ·硅纳米晶体的电输运机制 | 第15页 |
| ·硅纳米结构的热性能和热输运 | 第15页 |
| ·硅纳米晶体的存在形式 | 第15-17页 |
| ·多孔硅中的硅纳米晶体 | 第16页 |
| ·嵌在基质薄膜中的硅纳米晶体 | 第16-17页 |
| ·独立存在的硅纳米晶体 | 第17页 |
| ·硅纳米晶体的表面改性 | 第17-18页 |
| ·硅纳米晶体在太阳电池中的应用 | 第18-28页 |
| ·硅纳米晶体薄膜太阳电池 | 第18-19页 |
| ·硅纳米晶体嵌入基质薄膜用于太阳电池 | 第19-22页 |
| ·硅纳米晶体与碳纳米结构结合应用于太阳电池 | 第22-23页 |
| ·硅纳米晶体用于染料敏化太阳电池 | 第23-25页 |
| ·硅纳米晶体用于传统太阳电池 | 第25-26页 |
| ·新概念太阳电池 | 第26-28页 |
| ·本论文的研究目的和研究内容 | 第28-31页 |
| 第三章 实验内容和测试仪器 | 第31-37页 |
| ·实验方案 | 第31-32页 |
| ·硅纳米晶体的合成和表征 | 第31页 |
| ·硅纳米晶体的表面改性和表征 | 第31页 |
| ·硅纳米晶体在太阳电池中的应用 | 第31-32页 |
| ·结构表征设备 | 第32-33页 |
| ·X射线衍射 | 第32页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第32-33页 |
| ·光学性能测试设备 | 第33-34页 |
| ·荧光光谱(PL)及荧光量子效率(QY)测试 | 第33页 |
| ·椭圆偏振光谱测试仪 | 第33-34页 |
| ·电学性能测试设备 | 第34-35页 |
| ·太阳电池效率测试 | 第34页 |
| ·外量子效率测试 | 第34-35页 |
| ·成膜设备 | 第35-37页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第35-36页 |
| ·喷墨打印机 | 第36页 |
| ·其他设备 | 第36-37页 |
| 第四章 硅纳米晶体的制备与表征 | 第37-45页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·冷等离子体相关知识 | 第37-38页 |
| ·等离子体原理 | 第37-38页 |
| ·等离子体中电子和离子的温度 | 第38页 |
| ·等离子体的分类 | 第38页 |
| ·冷等离子体法合成硅纳米晶体的特点 | 第38-40页 |
| ·冷等离子体硅纳米晶体合成系统 | 第40-41页 |
| ·硅纳米晶体的表征 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 硅纳米晶体的表面改性 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验 | 第45-54页 |
| ·硅纳米晶体尺寸对硅墨水光致发光性能的影响 | 第45-47页 |
| ·改性剂及改性时间对硅墨水光致发光性能的影响 | 第47-50页 |
| ·硅墨水光致发光性能稳定性研究 | 第50-54页 |
| ·本章小结 | 第54-57页 |
| 第六章 硅纳米晶体在太阳电池中的应用 | 第57-71页 |
| ·引言 | 第57-58页 |
| ·实验 | 第58-61页 |
| ·太阳电池片的选取 | 第58页 |
| ·硅纳米晶体墨水的配制 | 第58-60页 |
| ·硅纳米晶体在太阳电池表面的沉积 | 第60-61页 |
| ·数据分析与讨论 | 第61-68页 |
| ·硅纳米晶体薄膜的椭偏表征 | 第61-63页 |
| ·硅纳米晶体薄膜对太阳电池效率提升的作用 | 第63-68页 |
| ·本章小结 | 第68-71页 |
| 第七章 全文结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 个人简介 | 第83-85页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及专利 | 第85-86页 |
