硅纳米晶薄膜的制备和表征
| 中文摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·硅纳米晶材料的研究意义 | 第8-9页 |
| ·硅纳米晶材料 | 第9-15页 |
| ·硅纳米晶嵌入氧化硅的结构 | 第9页 |
| ·硅纳米晶的微观结构 | 第9-10页 |
| ·硅纳米晶的发光特征 | 第10-12页 |
| ·多层硅纳米晶薄膜 | 第12-15页 |
| ·多层硅纳米晶薄膜结构的特点 | 第12-13页 |
| ·多层结构的研究进展 | 第13-15页 |
| ·硅纳米晶薄膜的光电器件 | 第15-17页 |
| ·硅纳米晶薄膜在发光器件上的应用 | 第15页 |
| ·硅纳米晶薄膜在太阳电池上的应用 | 第15-17页 |
| ·本课题的研究内容 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-23页 |
| 第二章 实验和原理 | 第23-31页 |
| ·磁控溅射技术形成薄膜 | 第23-25页 |
| ·薄膜的生长机理 | 第23页 |
| ·磁控溅射基础知识 | 第23-24页 |
| ·射频磁控溅射镀膜系统 | 第24-25页 |
| ·衬底的清洗 | 第25页 |
| ·样品的测试和分析 | 第25-30页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第25-26页 |
| ·傅里叶红外光谱 | 第26-28页 |
| ·透射电子显微镜 | 第28-29页 |
| ·光致发光光谱 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第三章 单层硅纳米晶薄膜的制备和表征 | 第31-43页 |
| ·材料介绍和制备方法 | 第31-32页 |
| ·富硅氧化硅薄膜 | 第31-32页 |
| ·硅纳米晶薄膜 | 第32页 |
| ·单层硅纳米晶薄膜的制备 | 第32-39页 |
| ·单层硅纳米晶薄膜的工艺参数探索 | 第32-35页 |
| ·不同溅射功率比对薄膜的影响 | 第35-39页 |
| ·成分分析 | 第35-37页 |
| ·微观结构分析 | 第37-39页 |
| ·薄膜厚度分析 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第四章 不同热处理方式对硅纳米晶薄膜的影响 | 第43-53页 |
| ·三种热处理方式介绍 | 第43-44页 |
| ·结果讨论 | 第44-50页 |
| ·成分分析 | 第44-46页 |
| ·微观结构分析 | 第46-48页 |
| ·发光性质 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第五章 多层硅纳米晶薄膜的制备和表征 | 第53-57页 |
| ·nc-Si/SiO2多层薄膜结构 | 第53页 |
| ·nc-Si/SiO2多层薄膜的制备 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第六章 结论及展望 | 第57-59页 |
| ·全文主要结论 | 第57页 |
| ·展望及建议 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 硕士期间的学术成果 | 第60页 |
