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毫米波介质移相器研究

第一章 引言第1-22页
 1.1 相控阵天线的相位扫描法基本原理第10-12页
 1.2 移相器分类及工作原理第12-16页
  1.2.1 铁氧体移相器第13-14页
  1.2.2 半导体PIN二极管移相器第14页
  1.2.3 砷化镓MMIC移相器第14-15页
  1.2.4 MEMS移相器第15-16页
  1.2.5 铁电介质移相器第16页
 1.3 铁电薄膜介质移相器研究现状第16-20页
 1.4 本课题的主要研究内容第20-22页
第二章 BST铁电薄膜制备及性能研究第22-30页
 2.1 BST铁电薄膜制备第22-25页
 2.2 BST铁电薄膜性能研究第25-30页
  2.2.1 形貌及结构研究第25-26页
  2.2.2 低频介电性能测试第26-28页
  2.2.3 高频介电性能分析第28-30页
第三章 毫米波薄膜介质移相器设计第30-49页
 3.1 介质移相器基本结构及工作原理第30-31页
 3.2 几种薄膜介质移相器设计方案第31-35页
  3.2.1 微带线结构第32-33页
  3.2.2 共面波导结构第33页
  3.2.3 分布式负载电容结构第33-35页
 3.3 分布式电容负载结构介质移相器电路设计第35-49页
  3.3.1 基本原理分析第35-38页
  3.3.2 移相段电路设计第38-42页
   3.3.2.1 共面波导尺寸设计第38-39页
   3.3.2.2 微带线尺寸设计第39-40页
   3.3.2.3 BST薄膜电容尺寸设计第40-42页
  3.3.3 附属电路设计第42-44页
   3.3.3.1 偏压电路第42页
   3.3.3.2 隔直和测试电路第42-44页
  3.3.4 毫米波修正第44-45页
  3.3.5 移相器设计结果第45-49页
第四章 毫米波薄膜介质移相器性能分析第49-56页
 4.1 器件各组成部分对移相器性能的影响第49-54页
 4.2 移相器整体S参数第54-56页
第五章 毫米波薄膜介质移相器工艺研究及制作第56-63页
 5.1 薄膜介质移相器制作流程第56-57页
 5.2 薄膜介质移相器加工工艺研究第57-61页
 5.3 存在的问题及今后的工作方向第61-63页
结论第63-64页
参考文献第64-69页
致谢第69页

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