| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·纳米材料概述 | 第9-10页 |
| ·一维纳米材料概述 | 第10页 |
| ·一维纳米有序阵列 | 第10-13页 |
| ·一维纳米有序阵列概述 | 第10-11页 |
| ·一维纳米有序阵列的性能与应用 | 第11-13页 |
| ·模板法制备一维纳米有序阵列 | 第13-17页 |
| ·模板的种类及优点 | 第14-15页 |
| ·模板组装一维纳米阵列的方法 | 第15-17页 |
| ·模板法制备一维单晶磁性纳米有序阵列 | 第17-19页 |
| ·模板组装一维纳米阵列的方法 | 第17-18页 |
| ·电化学沉积纳米材料沉积机理及动力学研究现状 | 第18-19页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验部分 | 第21-30页 |
| ·实验仪器与原料 | 第21-22页 |
| ·实验仪器 | 第21页 |
| ·实验原料 | 第21-22页 |
| ·阳极氧化铝模板制备 | 第22-26页 |
| ·铝表面预处理 | 第22-24页 |
| ·二步阳极氧化 | 第24-25页 |
| ·氧化铝模板后处理 | 第25-26页 |
| ·电沉积金属纳米线阵列 | 第26-28页 |
| ·直流电化学沉积实验装置及流程 | 第26-28页 |
| ·电化学沉积工艺参数 | 第28页 |
| ·测试方法 | 第28-30页 |
| ·XRD测试 | 第28-29页 |
| ·SEM测试 | 第29页 |
| ·TEM测试 | 第29页 |
| ·AFM测试 | 第29页 |
| ·VSM测试 | 第29-30页 |
| 第3章 高度有序阳极氧化铝模板的研究 | 第30-37页 |
| ·多孔氧化铝模板结构表征与分析 | 第30-33页 |
| ·氧化铝模板工艺研究 | 第33-36页 |
| ·本章小节 | 第36-37页 |
| 第4章 单晶磁性纳米线阵列的结构表征及生长动力学研究 | 第37-55页 |
| ·磁性纳米线阵列结构表征 | 第37-42页 |
| ·Ni纳米线阵列结构表征 | 第37-40页 |
| ·Fe纳米线阵列结构表征 | 第40-41页 |
| ·Fe-Ni纳米线阵列结构表征 | 第41-42页 |
| ·单晶纳米线阵列生长动力学分析 | 第42-53页 |
| ·FCC金属单晶纳米线生长取向研究 | 第42-50页 |
| ·Ni纳米线生长过程研究 | 第50-53页 |
| ·本章小节 | 第53-55页 |
| 第5章 金属单晶纳米线阵列性能测试 | 第55-60页 |
| ·磁性能测试 | 第55-59页 |
| ·孔径的影响 | 第57-58页 |
| ·模板厚度的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小节 | 第59-60页 |
| 第6章 总结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |