TFT-LCD点缺陷的分析与研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·TFT LCD 简介 | 第8-10页 |
| ·液晶驱动原理 | 第8-9页 |
| ·LCD 显示原理 | 第9-10页 |
| ·LASER 的概况 | 第10-12页 |
| ·本文的研究现状与发展趋势 | 第12-16页 |
| ·本文的研究内容与方法 | 第16-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 LCD 工艺流程及其点缺陷概况 | 第21-51页 |
| ·ARRAY 段的生产过程及点缺陷产生原因 | 第21-25页 |
| ·Gate line 的制作 | 第22-23页 |
| ·X-Over 的制作过程 | 第23页 |
| ·AS 层的制作流程 | 第23-24页 |
| ·TH 的设计与制作 | 第24-25页 |
| ·ITO 的涂布与点缺陷 | 第25页 |
| ·CELL 段生产流程与点缺陷产生原因 | 第25-38页 |
| ·FEOL 段生产流程及点缺陷产生原因 | 第26-32页 |
| ·BEOL 段生产流程 | 第32-38页 |
| ·TFT-LCD 模组生产流程 | 第38-51页 |
| ·生产车间布局 | 第38-39页 |
| ·TFT-LCD 模组生产流程 | 第39-51页 |
| 第三章 常见点缺陷的预防及其修复方法 | 第51-73页 |
| ·点缺陷的预防方法及其检验装置 | 第51-57页 |
| ·点缺陷的检验装置 | 第51-52页 |
| ·点缺陷的检验方法 | 第52-57页 |
| ·常见点缺陷的修复方法 | 第57-63页 |
| ·雷射修补的基本手法 | 第59页 |
| ·暗点化的修复方法 | 第59-60页 |
| ·ITO 隔离的修复方法 | 第60-61页 |
| ·雷射炸射的修复方法 | 第61-63页 |
| ·试验机台最佳的LASER 焦距 | 第63-66页 |
| ·试验机台切割时的最佳能量值 | 第66-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第四章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 硕士期间发表论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |