| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 前言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化 | 第12-13页 |
| 1.3 BiVO_4 光催化材料 | 第13-16页 |
| 1.3.1 BiVO_4 的概述 | 第13-15页 |
| 1.3.2 .BiVO_4 光催化剂的相关应用 | 第15-16页 |
| 1.4 碳材料修饰BiVO_4 研究进展 | 第16-18页 |
| 1.4.1 碳量子点修饰BiVO_4 光催化剂的研究进展 | 第16页 |
| 1.4.2 碳纳米管修饰BiVO_4 光催化剂的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4.3 石墨烯修饰BiVO_4 的光催化剂研究进展 | 第17-18页 |
| 1.5 光生载流子动力学研究进展 | 第18-21页 |
| 1.5.1 光生载流子动力学测试技术概况 | 第18-20页 |
| 1.5.2 光生载流子动力学研究进展 | 第20-21页 |
| 1.6 选题思路及主要研究内容 | 第21-23页 |
| 1.6.1 选题思路 | 第21页 |
| 1.6.2 课题研究主要内容 | 第21-22页 |
| 1.6.3 技术路线 | 第22-23页 |
| 2 实验材料与方法 | 第23-30页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第23页 |
| 2.1.2 主要设备 | 第23-24页 |
| 2.2 实验方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1 BiVO_4 光催化剂的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 CQDs@BiVO_4 光催化剂的制备 | 第25页 |
| 2.2.3 MWCNTs@BiVO_4 光催化剂的制备 | 第25页 |
| 2.2.4 rGO@BiVO_4 光催化剂的制备 | 第25页 |
| 2.3 分析表征方法 | 第25-26页 |
| 2.4 光催化降解评价方法 | 第26-30页 |
| 2.4.1 降解底物的性质 | 第26-27页 |
| 2.4.2 光催化降解性能分析测试 | 第27-28页 |
| 2.4.3 反应条件对光催化降解的影响 | 第28-30页 |
| 3 碳基材料改性BiVO_4 的结构及理化性质分析 | 第30-36页 |
| 3.1 不同光催化材料的晶体结构分析 | 第30-31页 |
| 3.2 不同光催化材料的基本形貌分析 | 第31-32页 |
| 3.3 不同光催化剂的光学性质分析 | 第32-33页 |
| 3.4 不同光催化剂的化学形态分析 | 第33-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 碳材料修饰BiVO_4 复合材料的载流子动力学研究 | 第36-43页 |
| 4.1 不同光催化材料的光致发光光谱分析 | 第36-37页 |
| 4.2 电子顺磁共振分析 | 第37-38页 |
| 4.3 不同光催化材料的荧光寿命及动力学过程分析 | 第38-40页 |
| 4.4 不同光催化材料的瞬态光电流密度分析 | 第40-41页 |
| 4.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 5 复合材料的光催化活性研究 | 第43-55页 |
| 5.1光催化降解因素实验 | 第43-50页 |
| 5.1.1 不同光催化材料的降解性能 | 第43-45页 |
| 5.1.2 不同催化剂投加量对降解性能的影响 | 第45-47页 |
| 5.1.3 底物浓度对光催化降解性能的影响 | 第47-48页 |
| 5.1.4 光照强度对光催化降解性能的影响 | 第48-49页 |
| 5.1.5 光催化剂的稳定性研究 | 第49-50页 |
| 5.2 光催化降解机理研究 | 第50-54页 |
| 5.2.1 光催化反应体系中主要活性自由基的研究 | 第50-52页 |
| 5.2.2捕获剂实验 | 第52-53页 |
| 5.2.3 降解机理分析 | 第53-54页 |
| 5.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 6 结论与建议 | 第55-57页 |
| 6.1 结论 | 第55-56页 |
| 6.2 建议 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 附录 | 第64-67页 |
| A.作者在攻读硕士学位期间发表学术论文与研究成果 | 第64页 |
| B.作者在攻读硕士学位期间主研和参与的科研项目 | 第64页 |
| C.论文中所使用的主要缩写词 | 第64-66页 |
| D.学位论文数据集 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
