| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·二氧化钛光催化技术研究现状 | 第7-8页 |
| ·二氧化钛光催化降解原理 | 第8-9页 |
| ·半导体光催化剂的改性 | 第9-11页 |
| ·贵金属沉积 | 第9-10页 |
| ·半导体复合 | 第10页 |
| ·离子掺杂 | 第10-11页 |
| ·半导体光敏化 | 第11页 |
| ·TiO_2光催化剂的固定化技术 | 第11-13页 |
| ·TiO_2光催化剂的固定化载体 | 第11页 |
| ·TiO_2光催化剂的固定化技术分类 | 第11-13页 |
| ·基底材料-飞秒激光微构造硅简介 | 第13-14页 |
| ·本论文的研究方向和内容 | 第14-15页 |
| ·本论文的研究方向 | 第14页 |
| ·本论文的研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 基底材料-飞秒激光微构造硅的制备及光学性质的表征 | 第15-35页 |
| ·微构造硅的制备 | 第15-19页 |
| ·实验装置 | 第15-17页 |
| ·微构造硅的前期准备、制备过程 | 第17-19页 |
| ·微构造硅基底表面微结构的控制 | 第19-23页 |
| ·不同气体背景的影响 | 第20-22页 |
| ·激光通量的影响 | 第22-23页 |
| ·微构造硅基底的光吸收性质的测量 | 第23-29页 |
| ·实验装置 | 第23-24页 |
| ·光吸收测量结果 | 第24-29页 |
| ·微构造硅表而形貌对光学性质的影响 | 第29页 |
| ·刻蚀过程中背景气体的影响 | 第29页 |
| ·吸收机理的讨论 | 第29-32页 |
| ·潜在应用 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 TiO_2/MS光催化剂制备及性能表征 | 第35-49页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂的制备过程所需药品和仪器 | 第35-37页 |
| ·实验药品 | 第35页 |
| ·实验仪器 | 第35页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂的制备过程 | 第35-37页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂的表征方法 | 第37-39页 |
| ·TiO_2/MS光催化的仪器表征方法 | 第37页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂的光催化活性的表征方法 | 第37-39页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂的SEM、AFM分析 | 第39-42页 |
| ·TiO2/MS光催化剂的XRD分析 | 第42-43页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂可见光至近红外波段的光吸收测量结果 | 第43-44页 |
| ·TiO2/MS光催化剂光催化活性的表征 | 第44-47页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂降解亚甲基蓝的实验结果 | 第44-46页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂降解亚甲基蓝的实验中吸附与降解现象 | 第46-47页 |
| ·TiO_2/MS光催化剂提高光催化效率机理的讨论 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 工作总结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 发表论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
