SiC高温陶瓷涂层的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·碳材料高温氧化涂层的研究进展 | 第9-13页 |
| ·碳基涂层材料的要求 | 第10-11页 |
| ·研究进展 | 第11-12页 |
| ·涂层体系的分类及其特点 | 第12-13页 |
| ·SiC超高温陶瓷材料及性能的研究进展 | 第13-16页 |
| ·SiC结构性质及应用 | 第13-15页 |
| ·SiC涂层性能研究 | 第15-16页 |
| ·涂层制备技术的现状 | 第16-21页 |
| ·激光熔覆技术 | 第16-17页 |
| ·热喷涂技术 | 第17页 |
| ·等离子熔覆技术 | 第17-18页 |
| ·堆焊技术 | 第18-19页 |
| ·溶胶一凝胶法 | 第19页 |
| ·气相沉积 | 第19页 |
| ·包埋法 | 第19-20页 |
| ·钨极氩弧熔覆技术 | 第20-21页 |
| ·本课题的选题意义及主要研究内容 | 第21-23页 |
| ·选题意义 | 第21页 |
| ·本课题研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 工艺原理和实验方案设计 | 第23-32页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·基体预处理 | 第23-24页 |
| ·预处理目的 | 第23-24页 |
| ·预处理方法 | 第24页 |
| ·实验材料 | 第24-26页 |
| ·基体材料 | 第24-25页 |
| ·原材料粉末 | 第25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·涂层制备方法 | 第26-27页 |
| ·预涂层厚度 | 第26-27页 |
| ·显微维氏硬度 | 第27-28页 |
| ·HV硬度测量 | 第27页 |
| ·显微硬度测试仪使用原理 | 第27-28页 |
| ·组织结构分析 | 第28-29页 |
| ·扫描电镜和能谱元素分析 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射分析 | 第29页 |
| ·抗烧蚀性能检测设备及方法 | 第29-30页 |
| ·等离子火焰烧蚀 | 第29-30页 |
| ·氧乙炔火焰烧蚀 | 第30页 |
| ·抗氧化性能测试设备及方法 | 第30-32页 |
| 第3章 SIC陶瓷涂层的制备 | 第32-38页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·组分设计 | 第32-34页 |
| ·涂层制备 | 第34-35页 |
| ·熔敷电流对涂层制备的影响 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 组织结构分析 | 第38-48页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·试样的宏观形貌 | 第38-40页 |
| ·试样的扫描电镜结果分析 | 第40页 |
| ·SiC-Si体系的涂层SEM结果及分析 | 第40-45页 |
| ·分析比较 | 第45页 |
| ·涂层的HV硬度测量 | 第45-46页 |
| ·涂层的X射线衍射图谱 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 涂层界面行为及机理分析 | 第48-54页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·液固相合成+气固—中间相合成机理 | 第48-49页 |
| ·β-SiC外延生长机理 | 第49-52页 |
| ·籽晶的形成 | 第50页 |
| ·外延生长 | 第50-52页 |
| ·熔覆过程温度场的有限元分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第6章 耐烧蚀和抗氧化性能评价 | 第54-73页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·等离子火焰烧蚀 | 第54-60页 |
| ·烧蚀实验结果 | 第54-57页 |
| ·耐烧蚀性能机理分析 | 第57-59页 |
| ·氧乙炔火焰烧蚀 | 第59-60页 |
| ·抗氧化性能评定 | 第60-72页 |
| ·氧化结果 | 第61-65页 |
| ·不同熔敷电流制备的涂层的氧化结果 | 第65-67页 |
| ·影响SiC涂层抗氧化行为的因素 | 第67-68页 |
| ·SiC涂层抗氧化分析 | 第68-70页 |
| ·氧化表面形貌 | 第70-71页 |
| ·抗氧化机理 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
