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CYCHU-10回旋加速器主磁铁垫补技术研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-13页
   ·目的和意义第8-9页
   ·国内外发展现状第9-11页
   ·本文主要工作和章节安排第11-13页
2 等时性回旋加速器基本理论第13-23页
   ·引言第13页
   ·回旋加速器基本原理.第13-18页
   ·等时性回旋加速器束流动力学基础第18-22页
   ·回旋加速器数值计算软件简介.第22页
   ·本章小结第22-23页
3 CYCHU-10 回旋加速器磁场计算与虚拟垫补第23-40页
   ·引言第23页
   ·CYCHU-10 回旋加速器主磁铁有限元计算第23-26页
   ·等时性回旋加速器主磁铁垫补原理第26-35页
   ·磁场测量密度与插值.第35-39页
   ·本章小结第39-40页
4 CYCHU-10 回旋加速器磁场测量第40-53页
   ·引言第40页
   ·回旋加速器主磁铁的测量方法.第40-43页
   ·CYCHU-10 中平面磁场的测量第43-47页
   ·实际激励电流和有限元磁化曲线的调整第47-51页
   ·本章小结第51-53页
5 CYCHU-10 回旋加速器主磁铁垫补第53-68页
   ·引言第53页
   ·实际磁铁垫补量的计算与评估.第53-59页
   ·磁铁垫补程序的改进.第59-63页
   ·CYCHU-10 回旋加速器首次修正第63-67页
   ·本章小结第67-68页
6 全文总结第68-70页
致谢第70-71页
参考文献第71-73页

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