| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-21页 |
| CHAPTER 1 INTRODUTION | 第21-58页 |
| ·Background of Plasma | 第21-26页 |
| ·Definition and Advantages of Plasma | 第21-22页 |
| ·Classification of Low Temperature Plasma | 第22-26页 |
| ·Mechanisms of Plasma Treatments | 第26-30页 |
| ·Plasma Etching/Re-deposition | 第27-28页 |
| ·Plasma Polymerization | 第28-30页 |
| ·Factors Influencing Treatment Effects | 第30-37页 |
| ·Gas and Monomer | 第30-32页 |
| ·The Applied Power | 第32-34页 |
| ·Treatment Time | 第34-36页 |
| ·Distance from Plasma Jet to Substrate | 第36-37页 |
| ·Tests and Analysis | 第37-41页 |
| ·Surface Physical Analysis | 第37页 |
| ·Surface Chemical Analysis | 第37页 |
| ·Surface Wettability | 第37-38页 |
| ·Strike-Through Test | 第38页 |
| ·Suction Test | 第38页 |
| ·Interfacial Adhesion Tests | 第38-40页 |
| ·Single-Fiber/yarn Strength Test | 第40页 |
| ·Film Properties Tests | 第40-41页 |
| ·Statistical Analysis | 第41页 |
| ·Applications in Treating Textile Materials | 第41-45页 |
| ·Wettability | 第41-42页 |
| ·Cleaning | 第42-43页 |
| ·Shrink Resistance of Wool | 第43-44页 |
| ·Dyeability | 第44-45页 |
| ·Desizing | 第45页 |
| ·Adhesion | 第45页 |
| ·The Structure and Properties of Polyamide 6(PA 6) | 第45-46页 |
| ·Objectives of This Research | 第46-48页 |
| References | 第48-58页 |
| CHAPTER 2 THE ETCHING OF POLYAMIDE 6 FILMS TREATED WITH He/O_2 ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA JET WITH DIFFERENT TREATMENT TIME | 第58-73页 |
| ·Introduction | 第58-59页 |
| ·Experimental | 第59-61页 |
| ·Materials | 第59页 |
| ·Plasma Treatment | 第59-60页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Films Surface | 第60页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第60-61页 |
| ·Atomic Force Microscopy(AFM) Analysis | 第61页 |
| ·X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) | 第61页 |
| ·Results and Discussion | 第61-68页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Film Surfaces | 第61-63页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第63-64页 |
| ·AFM Results | 第64-66页 |
| ·XPS Analysis | 第66-68页 |
| ·Conclusions | 第68-70页 |
| References | 第70-73页 |
| CHAPTER 3 INFLUENCE OF PLASMA TREATMENT POWER ON ETCHING OF POLYAMIDE 6 FILMS USING ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA | 第73-86页 |
| ·Introduction | 第73-74页 |
| ·Experimental | 第74-75页 |
| ·Material | 第74页 |
| ·Plasma Treatment | 第74页 |
| ·Contact Angle | 第74页 |
| ·Etching Rate of the Plasma Treated PA 6 Films Surface. | 第74页 |
| ·Atomic Force Microscopy(AFM) | 第74-75页 |
| ·X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis(XPS) | 第75页 |
| ·Results and Discussion | 第75-80页 |
| ·Contact Angle Measurements | 第75页 |
| ·Etching Rate | 第75-77页 |
| ·Surface Morphology and Roughness | 第77-79页 |
| ·Surface Chemical Analysis | 第79-80页 |
| ·Conclusions | 第80-84页 |
| References | 第84-86页 |
| CHAPTER 4 INFLUENCE OF MOISTURE REGAINS ON ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA ETCHING OF POLYAMIDE 6 FILMS | 第86-102页 |
| ·Introduction | 第86-88页 |
| ·Experimental | 第88-89页 |
| ·Material | 第88页 |
| ·Plasma Treatment | 第88页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Film Surfaces | 第88-89页 |
| ·Contact Angle Measurements | 第89页 |
| ·AFM Analysis | 第89页 |
| ·Analysis of Surface Chemical Composition | 第89页 |
| ·Results and Discussion | 第89-98页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Film Surfaces | 第89-90页 |
| ·Contact Angle Measurements | 第90-91页 |
| ·AFM Results | 第91-94页 |
| ·XPS Analysis | 第94-98页 |
| ·Conclusions | 第98-99页 |
| References | 第99-102页 |
| CHAPTER 5 INFLUENCE OF THE PERCENT OF OXYGEN GAS ADDED TO HELIUM GAS ON PLASMA ETCHING OF POLYAMIDE 6 FILLMS | 第102-115页 |
| ·Introduction | 第102页 |
| ·Experimental | 第102-104页 |
| ·Material | 第102页 |
| ·Plasma Treatment | 第102-103页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第103页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Film Surfaces | 第103页 |
| ·Morphological Study | 第103-104页 |
| ·XPS Analysis | 第104页 |
| ·T-peel Strength | 第104页 |
| ·Results and Discussion | 第104-113页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第104页 |
| ·Etching Rate | 第104-106页 |
| ·Morphological Study | 第106-108页 |
| ·XPS Analysis | 第108-112页 |
| ·T-peel Strength | 第112-113页 |
| ·Conclusions | 第113-114页 |
| References | 第114-115页 |
| CHAPTER 6 SURFACE MODIFICATION OF POLYAMIDE 6 FILMS BY He/CF_4 PLASMA USING ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA JET | 第115-135页 |
| ·Introduction | 第115-116页 |
| ·Experimental | 第116-118页 |
| ·Material | 第116页 |
| ·Plasma Treatment | 第116-117页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第117页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Film Surfaces | 第117页 |
| ·AFM Analysis | 第117页 |
| ·Analysis of Surface Chemical Composition | 第117-118页 |
| ·T-peel Strength | 第118页 |
| ·Results and Discussion | 第118-130页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第118-119页 |
| ·Etching Rate of The Plasma Treated PA 6 Film Surfaces | 第119-120页 |
| ·Surface Morphology and Roughness | 第120-122页 |
| ·XPS Analysis | 第122-129页 |
| ·T-peel Strength | 第129-130页 |
| ·Conclusions | 第130-131页 |
| References | 第131-135页 |
| CHAPTER 7 INFLUENCE OF JET-TO-SUBSTRATE DISTANCE ON PLASMA ETCHING OF POLYAMIDE 6 FILLMS USING ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA | 第135-143页 |
| ·Introduction | 第135-136页 |
| ·Experimental | 第136-137页 |
| ·Material | 第136页 |
| ·Plasma Treatment | 第136页 |
| ·Etching Rate | 第136-137页 |
| ·SEM Analysis | 第137页 |
| ·T-peel Strength | 第137页 |
| ·Results and Discussion | 第137-141页 |
| ·Plasma Etching Rate | 第137-138页 |
| ·SEM Results | 第138-140页 |
| ·Contact Angle Measurements | 第140页 |
| ·T-peel Strength | 第140-141页 |
| ·Conclusions | 第141-142页 |
| References | 第142-143页 |
| CHAPTER 8 INFLUENCE OF ETHANOL PRETREATMENT ON ETCHING OF POLYAMIDE 6 FILMS USING ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA | 第143-154页 |
| ·Introduction | 第143页 |
| ·Experimental | 第143-145页 |
| ·Materials | 第143-144页 |
| ·Plasma Treatment | 第144页 |
| ·Weight Change | 第144页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第144页 |
| ·SEM Results | 第144页 |
| ·XPS Analysis | 第144-145页 |
| ·T-peel Strength | 第145页 |
| ·Results and Discussion | 第145-151页 |
| ·Weight Changes | 第145-146页 |
| ·Contact Angle Measurement | 第146页 |
| ·SEM Results | 第146-147页 |
| ·XPS Analysis | 第147-150页 |
| ·T-peel Strength | 第150-151页 |
| ·Conclusions | 第151-152页 |
| References | 第152-154页 |
| CHAPTER 9 CONCLUSIONS | 第154-157页 |
| APPENDIX | 第157-159页 |
| ACKNOWLEDGEMENTS | 第159页 |
