基于ZnO的复合半导体薄膜的电沉积制备与光催化活性的研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| ·研究背景 | 第13-14页 |
| ·半导体光催化剂种类 | 第14-15页 |
| ·光催化剂分类 | 第14页 |
| ·半导体分类 | 第14-15页 |
| ·半导体光催化原理 | 第15-17页 |
| ·半导体薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| ·电沉积制备的半导体材料 | 第19页 |
| ·半导体光催化剂的应用 | 第19-20页 |
| ·无机污染物的处理 | 第19-20页 |
| ·有机污染物的处理 | 第20页 |
| ·半导体光催化剂的改性 | 第20-22页 |
| ·表面光敏化 | 第20-21页 |
| ·金属离子掺杂 | 第21页 |
| ·半导体表面贵金属修饰改性 | 第21页 |
| ·复合半导体 | 第21-22页 |
| ·本文主要研究内容 | 第22页 |
| ·本课题的特点与创新之处 | 第22-23页 |
| 第2章 实验步骤及检测方法 | 第23-29页 |
| ·实验材料与设备 | 第23-24页 |
| ·实验技术方案 | 第24-25页 |
| ·实验基本步骤 | 第25-27页 |
| ·基片的清洗 | 第25页 |
| ·膜制备 | 第25-26页 |
| ·光催化性能测试 | 第26-27页 |
| ·膜的表征 | 第27-29页 |
| ·薄膜的XRD 表征 | 第27页 |
| ·薄膜的SEM 表征及EDS 表征 | 第27-28页 |
| ·UV-Vis 分析 | 第28页 |
| ·FT-IR 分析 | 第28-29页 |
| 第3章 不同电解液体系下制备ZnO 薄膜 | 第29-37页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·实验部分 | 第30-33页 |
| ·硝酸锌水溶液体系 | 第30页 |
| ·氯化锌水溶液体系 | 第30-31页 |
| ·氯化锌与双氧水体系 | 第31页 |
| ·ZnO 薄膜的光催化活性评价 | 第31-33页 |
| ·ZnO 薄膜的表征 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 α-FeOOH 与ZnO 的复合 | 第37-60页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验部分 | 第38-39页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第38页 |
| ·α-FeOOH 薄膜制备 | 第38页 |
| ·叠层型复合薄膜制备 | 第38-39页 |
| ·混合型复合薄膜制备 | 第39页 |
| ·结果讨论 | 第39-58页 |
| ·α-FeOOH 薄膜的表征 | 第39-40页 |
| ·叠层型复合膜的表征 | 第40-42页 |
| ·叠层型复合膜的光催化活性比较 | 第42-48页 |
| ·混合型复合膜的表征 | 第48-53页 |
| ·混合型复合膜的光催化活性比较 | 第53-57页 |
| ·烧结对光催化剂光催化氧化活性的影响 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 Cu_2O（CuO）与ZnO 的复合 | 第60-81页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·实验部分 | 第61-62页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第61-62页 |
| ·Cu_2O 薄膜的制备 | 第62页 |
| ·叠层型薄膜的制备 | 第62页 |
| ·混合型薄膜的制备 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-80页 |
| ·Cu_2O 薄膜的表征 | 第62-64页 |
| ·叠层薄膜的表征 | 第64-65页 |
| ·叠层薄膜的光催化性能比较 | 第65-71页 |
| ·混合薄膜的表征 | 第71-75页 |
| ·混合薄膜光催化性能比较 | 第75-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
