| 论文摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 电磁感应透明及其物理机制 | 第10-12页 |
| 1.2 电磁超材料简介 | 第12-14页 |
| 1.3 基于Si超材料的电磁感应透明的研究现状 | 第14-21页 |
| 1.4 本文研究意义和章节安排 | 第21-23页 |
| 第二章 理论模拟软件FDTD Solutions的介绍 | 第23-28页 |
| 2.1 FDTD算法 | 第23-25页 |
| 2.2 FDTD Solutions模拟软件介绍 | 第25-28页 |
| 第三章 U形全介电Si超材料的电磁感应透明 | 第28-39页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 单元结构设计和模拟设置 | 第29-30页 |
| 3.3 模拟电场分析 | 第30-32页 |
| 3.4 单元结构周期对EIT的影响 | 第32-33页 |
| 3.5 入射光偏振角度对EIT的影响 | 第33-34页 |
| 3.6 慢光效应 | 第34-36页 |
| 3.7 介质折射率对EIT的影响及其传感特性 | 第36-37页 |
| 3.8 本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 π形全介电Si超材料的电磁感应透明 | 第39-48页 |
| 4.1 引言 | 第39-40页 |
| 4.2 单元结构设计和模拟设置 | 第40-41页 |
| 4.3 谐振器间距对EIT的影响 | 第41-42页 |
| 4.4 模拟电场分析 | 第42-44页 |
| 4.5 模拟表面电流分析 | 第44-45页 |
| 4.6 单元结构周期对EIT的影响 | 第45-46页 |
| 4.7 介质折射率对EIT的影响及光学传感 | 第46-47页 |
| 4.8 本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 5.1 论文总结 | 第48-49页 |
| 5.2 研究展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读硕士学位期间获得的科研成果 | 第58页 |